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本申请提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，制备方法包括：在基底的第一无机层上涂布第一有机溶液；第一有机溶液中包括氟元素，基底包括刚性衬底和第一无机层，第一无机层位于刚性衬底的第一表面上。固化第一有机溶液，形成第一有机膜。将第一有机膜与基...
该专利属于武汉天马微电子有限公司上海分公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉天马微电子有限公司上海分公司授权不得商用。

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