【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于半导体，具体涉及一种对准方法、半导体生产设备及计算机可读存储介质。
技术介绍
1、基底对准分系统是曝光设备的关键分系统之一，其主要为设备实现精确曝光功能提供基底标记测量，并将基底上的对准标记在成像视场内的像素坐标位置转换到曝光设备的整机坐标系中，以便上层软件根据对准测量模型，求解基底相对于承载其接受曝光的运动台之间的位姿(即位置和姿态)关系，以达到一定的曝光套刻精度要求。
2、现有技术中，基底对准分系统一般仅包括一个对准镜头，且对准镜头固定不动。执行对准操作时，通过工件台吸附基底并携带基底运动，以使得基底上的对准标记依次处于对准镜头的下方，以利用对准镜头拍摄对准标记。之后经过一系列的光电信号转换、模型计算后，将对准标记在基底上的位置坐标转换成工件台下的物理坐标，使基底与运动台建立起相对坐标关系，达到使运动台控制基底进行精确运动进而使得曝光套刻精度满足需求的效果。
3、曝光设备生产的基底物料的尺寸较大，一般为404mm×515mm、510mm×515mm、600mm×600mm等，布局在基底上的标记的...
【技术保护点】
1.一种对准方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的对准方法，其特征在于，所述基底包括多个曝光区域，每个所述曝光区域上设置有多个所述对准标记；
3.根据权利要求2所述的对准方法，其特征在于，所述将基底上的多个所述对准标记划分为多个标记组的步骤包括：
4.根据权利要求2所述的对准方法，其特征在于，所述对准方法还包括：
5.根据权利要求4所述的对准方法，其特征在于，所述对准镜头的数量与所述对准点组的所述对准点的数量相同；
6.根据权利要求5所述的对准方法，其特征在于，所述控制至少部分所述对准镜头运动，以...
【技术特征摘要】
1.一种对准方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的对准方法，其特征在于，所述基底包括多个曝光区域，每个所述曝光区域上设置有多个所述对准标记；
3.根据权利要求2所述的对准方法，其特征在于，所述将基底上的多个所述对准标记划分为多个标记组的步骤包括：
4.根据权利要求2所述的对准方法，其特征在于，所述对准方法还包括：
5.根据权利要求4所述的对准方法，其特征在于，所述对准镜头的数量与所述对准点组的所述对准点的数量相同；
6.根据权利要求5所述的对准方法，其特征在于，所述控制至少部分所述对准镜头运动，以使得多个所述对准镜头与所述对准点组的多个所述对准点一一对应的步骤包括：
7.根据权利要求6所述的对准方法，其特征在于，所述对准方法还包括针对每个所述标记组执行的如下步骤：
8.根据权利要求6所述的对准方法，其特征在于，所述基准位置、多个所述第一目标位置与多个所述对准点一一对应；
9.根据权利要求7所述的对准方法，其特征在于，以所述基准位置在所述整机坐标系下的坐标作为与所述基准位置对应的所述对准镜头在所述整机坐标系系下的名义坐标、以及以每个所述第一目标位置在所述整机坐标系下的坐标分别作为对应的一个所述对准镜头在所述整机坐标系下的名义坐标；<...
【专利技术属性】
技术研发人员：宋涛，娄家奇，黎鹏，
申请(专利权)人：上海芯上微装科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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