【技术实现步骤摘要】
本公开涉及化学气相沉积领域,更具体地涉及一种化学气相沉积衬底的制备方法以及化学气相沉积方法。
技术介绍
1、化学气相沉积(chemical vapor deposition,简称cvd)是利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生反应生成固态沉积物的过程。化学气相沉积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。这些无机材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是iii-v、ii-iv、iv-vi族中的二元或多元的元素间化合物,而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的沉积过程精确控制。化学气相沉积已成为无机合成化学的一个新领域。目前被广泛应用到红外材料领域如硒化锌、硫化锌、碳化硅等的生产。
2、在红外光学材料的化学气相沉积生产中,因红外光学材料生长的大尺度(即长度、宽度和厚度都大,生长完成后为块体产品,块体产品通常厚度在10mm以上),目前红外光学材料生长常用的衬底是用石墨材料制作而成(即石墨板)。由于石墨材料具有耐高温、耐腐蚀、易于加工成型、成本低的优势,被广泛用于化学气相沉积领域,作为块体产品生长的衬底使用。
【技术保护点】
1.一种化学气相沉积衬底的制备方法,其特征在于,包括步骤:
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...【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:杨峰,刘羊,曹林,王和风,杨雁培,陈杨,冯锡文,符小弟,尹士平,
申请(专利权)人:安徽光智科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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