化学气相沉积衬底的制备方法以及化学气相沉积方法技术

技术编号:44928366 阅读:19 留言:0更新日期:2025-04-08 19:08
提供一种化学气相沉积衬底的制备方法以及化学气相沉积方法,化学气相沉积衬底的制备方法包括:提供石墨板,表面清洁,石墨板设有间隔开的贯通的多个通孔,通孔的孔径不大于10mm,间距不大于20cm,石墨板的长度方向的尺寸≤2000mm、宽度方向的尺寸≤1000mm、厚度方向的尺寸20‑40mm;提供石墨纸,厚度0.5‑2.0mm;石墨板上刷胶黏剂0.1‑0.5mm;石墨纸平铺到石墨板上;推平石墨纸;从通孔和石墨板的四周排出的胶黏剂清理掉;软垫覆盖石墨纸,板材盖在软垫上,常温静置不少于10h;静置后,将粘贴石墨纸的石墨板取出,修整四周边角;将粘贴石墨纸的石墨板投入高温设备中,在真空或保护气氛条件下,以不高于50℃/h加热到200‑600℃,保温不少于3h,保温结束后自然降温,得化学气相沉积衬底。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及化学气相沉积领域,更具体地涉及一种化学气相沉积衬底的制备方法以及化学气相沉积方法


技术介绍

1、化学气相沉积(chemical vapor deposition,简称cvd)是利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生反应生成固态沉积物的过程。化学气相沉积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。这些无机材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是iii-v、ii-iv、iv-vi族中的二元或多元的元素间化合物,而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的沉积过程精确控制。化学气相沉积已成为无机合成化学的一个新领域。目前被广泛应用到红外材料领域如硒化锌、硫化锌、碳化硅等的生产。

2、在红外光学材料的化学气相沉积生产中,因红外光学材料生长的大尺度(即长度、宽度和厚度都大,生长完成后为块体产品,块体产品通常厚度在10mm以上),目前红外光学材料生长常用的衬底是用石墨材料制作而成(即石墨板)。由于石墨材料具有耐高温、耐腐蚀、易于加工成型、成本低的优势,被广泛用于化学气相沉积领域,作为块体产品生长的衬底使用。

>3、由于石墨材料在本文档来自技高网...

【技术保护点】

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【技术特征摘要】

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【专利技术属性】
技术研发人员:杨峰刘羊曹林王和风杨雁培陈杨冯锡文符小弟尹士平
申请(专利权)人:安徽光智科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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