【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及图像处理。更具体地，本专利技术涉及一种用于纯胶膜生产线的质量监测方法。
技术介绍
1、纯胶膜常应用于电子产品、光学设备、包装材料等多个领域。在这些应用中，胶膜的质量直接关系到最终产品的性能和可靠性。例如，在光学显示设备中，胶膜的透明度、光学透过率及均匀性都会显著影响显示效果和使用寿命；在包装领域，胶膜的厚度均匀性和机械强度对其保护作用至关重要。因此，保证胶膜在生产过程中具备一致的质量标准，特别是保持胶膜的厚度均匀性，是提高产品质量、增强市场竞争力的基础。
2、胶膜的厚度均匀性是评估其质量的关键指标之一。胶膜厚度的不均匀性不仅会影响其物理性能，如抗拉强度、弹性和耐久性等，还可能导致胶膜在实际应用中的失效。例如，某些区域的厚度过薄可能导致胶膜容易破裂或失去保护功能，而厚度过大则可能导致胶膜在特定应用中无法达到理想的效果。因此，胶膜生产过程中的质量监控，尤其是对胶膜厚度均匀性的监测，具有至关重要的作用。
3、然而，在现有技术中，胶膜质量监测主要依赖光照强度的测量。传统的光照强度矩阵采集技术是通过光源发射器...
【技术保护点】
1.一种用于纯胶膜生产线的质量监测方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种用于纯胶膜生产线的质量监测方法，其特征在于，所述目标区域中任一位置点在下一次采集新的光照强度矩阵时的移动位置点数，满足如下关系式：
3.根据权利要求1所述的一种用于纯胶膜生产线的质量监测方法，其特征在于，监测区域的长度为目标区域的长度的一半。
4.根据权利要求3所述的一种用于纯胶膜生产线的质量监测方法，其特征在于，所述监测区域的最大采样次数，满足如下关系式：
5.根据权利要求4所述的一种用于纯胶膜生产线的质量监测方法，其特征在于，监测...
【技术特征摘要】
1.一种用于纯胶膜生产线的质量监测方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种用于纯胶膜生产线的质量监测方法，其特征在于，所述目标区域中任一位置点在下一次采集新的光照强度矩阵时的移动位置点数，满足如下关系式：
3.根据权利要求1所述的一种用于纯胶膜生产线的质量监测方法，其特征在于，监测区域的长度为目标区域的长度的一半。
4.根据权利要求3所述的一种用于纯胶膜生产线的质量监测方法，其特征在于，所述监测区域的最大采样次数，满足如下关系式：
5.根据权利要求4所述的一种用于纯胶膜生产线的质量监测方法，其特征在于，监测区域中任一位置点的光强指数，满足如下关系式：
6.根据权利要求1所述一种用于纯胶膜生产线的质量监测方法，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄斐，廖柱光，
申请(专利权)人：江阴市晟云电子新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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