【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻电机，具体涉及一种具有自适应控制功能的光刻机电机系统。
技术介绍
1、在半导体制造过程中，光刻机是关键的生产设备之一，其性能直接影响到芯片的质量和产量。传统的光刻机电机控制系统多采用固定参数的控制策略，难以适应生产过程中的各种变化，如温度波动、负载变化等，这限制了光刻机的精度和效率。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于克服现有技术的缺点，提供了一种具有自适应控制功能的光刻机电机系统，具体通过以下技术方案来实现：
2、一种具有自适应控制功能的光刻机电机系统，包括控制模块、传感器，其中：
3、所述传感器实时采集电机的运行数据，将采集到的电机运行参数传输给控制模块；
4、所述控制模块接收传感器采集的电机运行参数，并通过自适应控制算法能够根据历史数据和实时反馈，自动优化控制参数。
5、可选或优选地，所述自适应控制算法包括以下内容：
6、数据采集：通过传感器实时采集电机的工作状态和环境条件数据；
7、特征提取：利用卷积神经网络构建机器学习模型，从采集的数据中提取关键特征；
8、模型更新：根据提取的关键特征更新预测模型，从而更准确地描述系统的动态行为；
9、控制参数优化：基于更新后的模型，使用mpc算法计算最优控制参数；
10、执行控制：将计算出的控制参数应用到电机系统中，调整电机的运行状态。
11、可选或优选地，在采用卷积神经网络进行特征提取时，包括以
12、数据预处理：将传感器采集到的数据进行清洗、去除噪声和异常值；而后对数据进行标准化处理，确保不同特征具有相同的量纲，便于后续处理，使其适合作为cnn的输入；
13、卷积操作：利用多个卷积核提取数据中的局部特征；
14、池化操作：通过最大池化或平均池化降维，同时保留重要特征；
15、全连接层：将所有特征综合起来，形成最终的特征向量。
16、可选或优选地，在进行特征提取时，将清洗后的数据按照8:1:1的比例划分为训练集、验证集和测试集。
17、可选或优选地，在采用mpc算法计算最优控制参数时，不断重复以下步骤，实现对系统的持续优化控制：
18、s1、建立用于描述光刻机电机系统动态行为的系统模型：
19、xi+1＝axi+bui
20、其中，xi表示第i时刻的系统状态；ui表示第i时刻的控制输入；a表示系统矩阵；b表示控制输入矩阵；
21、s2、基于步骤s1建立的系统模型，预测光刻电机系统在未来一段时间内的状态变化，具体为假设预测步长为n，则通过迭代的方式计算未来n步的状态：
22、
23、
24、该状态可以用矩阵形式表示为：
25、
26、其中，u是未来n-1步的控制输入序列:
27、
28、s3、根据上述内容和设定的优化目标，构造一个目标函数f(u)：
29、f(u)＝(x-xref)tq(x-xref)+utru
30、其中，xref是未来n步的参考状态；q和r分别是状态和控制的权重矩阵；
31、将预测模型代入目标函数，得到：
32、f(u)＝(m+ku-xref)tq(m+ku-xref)+utru
33、其中，m是由当前状态和外部干扰引起的未来状态，k是由控制输入矩阵组成的矩阵；
34、s4、求解目标函数f(u)最小的控制输入序列u，求解得到的控制输入序列为u*；
35、s5、将步骤s4求解得到的控制输入序列为u*的第一个元素ui*作为当前时刻的控制输入；
36、s6、在下一个采样时刻，用新的测量值更新预测模型，并重新求解目标函数最小的控制输入序列，得到新的控制序列。
37、基于上述技术方案，可产生如下技术效果：
38、本专利技术提供的一种具有自适应控制功能的光刻机电机系统，其益效果包括：
39、(1)高精度：通过自适应控制算法，能够实时调整控制参数，提高光刻机电机的运行精度；
40、(2)高效率：优化的控制参数能够减少能量消耗，提高生产效率；
41、(3)强适应性：系统能够适应不同的工作条件和环境变化，保证光刻机的稳定运行；
42、(4)易于维护：系统的模块化设计使得维护和升级更加方便。
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1.一种具有自适应控制功能的光刻机电机系统，其特征在于：包括控制模块、传感器，其中：
2.根据权利要求1所述的一种具有自适应控制功能的光刻机电机系统，其特征在于：所述自适应控制算法包括以下内容：
3.根据权利要求2所述的一种具有自适应控制功能的光刻机电机系统，其特征在于：在采用卷积神经网络进行特征提取时，包括以下内容：
4.根据权利要求3所述的一种具有自适应控制功能的光刻机电机系统，其特征在于：在进行特征提取时，将清洗后的数据按照8:1:1的比例划分为训练集、验证集和测试集。
5.根据权利要求2所述的一种具有自适应控制功能的光刻机电机系统，其特征在于：在采用MPC算法计算最优控制参数时，不断重复以下步骤，实现对系统的持续优化控制：
【技术特征摘要】
1.一种具有自适应控制功能的光刻机电机系统，其特征在于：包括控制模块、传感器，其中：
2.根据权利要求1所述的一种具有自适应控制功能的光刻机电机系统，其特征在于：所述自适应控制算法包括以下内容：
3.根据权利要求2所述的一种具有自适应控制功能的光刻机电机系统，其特征在于：在采用卷积神经网络进行特征提取时，包括以下内容：...
【专利技术属性】
技术研发人员：金锋，陈纹锋，
申请(专利权)人：苏州励索精密装备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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