一种卧式晶圆集中清洗设备制造技术

本发明专利技术公开了一种卧式晶圆集中清洗设备，涉及晶圆清洗技术领域，包括底座，所述底座的上端固定连接有竖架，所述竖架的侧壁上设有移动槽，所述移动槽的内部设有移动板，所述竖架的顶部安装有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的伸缩端向下贯穿竖架并固定连接在移动板的上端，所述移动槽的内部竖直设有两个滑杆，所述滑杆贯穿移动板并与移动板滑动连接。本发明专利技术可将晶圆本体在多个清洗液内部依次完成清洗，清洗效率更高效，并且通过喷管带动喷嘴往复摆动，进而在清洗过程中避免杂质粘结，在对晶圆本体进行清洗的同时驱动晶圆本体转动，能够实现晶圆本体的充分清洗，同时有效对晶圆本体清洗，提高清洗效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及晶圆清洗，尤其涉及一种卧式晶圆集中清洗设备。

技术介绍

1、晶圆是由高纯度硅材料制成的圆形晶片，用于制造硅半导体电路。制作过程始于多晶硅原料，将其提纯后溶解，并掺入硅晶种，通过缓慢拉伸形成圆柱形单晶硅棒。接着，这个硅棒经过精细的研磨、抛光和切片工艺，最终得到我们所说的晶圆，当前国内主流的晶圆尺寸包括8英寸和12英寸。在晶圆加工的中后期阶段，清除晶圆表面的胶质和杂质是一项关键步骤，为接下来的切割及后续加工做准备。

2、现有的晶圆清洗通常需要利用机械手反复对晶圆夹取，放入不同的清洗槽内进行清洗，降低了工作效率，耗时耗力，且多次夹取容易对晶圆产生不可逆的损伤，还会非常耽误清洗时间以及清洗效率，且现有晶圆清洗时会留下清洗液的残留物，清洗效果不够好。

技术实现思路

1、本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种卧式晶圆集中清洗设备。

2、为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：

3、一种卧式晶圆集中清洗设备，包括底座，所述底座的上端固定连接有竖本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种卧式晶圆集中清洗设备，包括底座（1），其特征在于，所述底座（1）的上端固定连接有竖架（2），所述竖架（2）的侧壁上设有移动槽（3），所述移动槽（3）的内部设有移动板（6），所述竖架（2）的顶部安装有电动伸缩杆（7），所述电动伸缩杆（7）的伸缩端向下贯穿竖架（2）并固定连接在移动板（6）的上端，所述移动槽（3）的内部竖直设有两个滑杆（4），所述滑杆（4）贯穿移动板（6）并与移动板（6）滑动连接，所述滑杆（4）的两端分别固定连接在移动槽（3）的内顶壁与内底壁上，所述移动板（6）的下端设有清洗组件，所述底座（1）的内部设有第一装置腔（18），所述第一装置腔（18）的内底壁上转动连接有转...

【技术特征摘要】

1.一种卧式晶圆集中清洗设备，包括底座（1），其特征在于，所述底座（1）的上端固定连接有竖架（2），所述竖架（2）的侧壁上设有移动槽（3），所述移动槽（3）的内部设有移动板（6），所述竖架（2）的顶部安装有电动伸缩杆（7），所述电动伸缩杆（7）的伸缩端向下贯穿竖架（2）并固定连接在移动板（6）的上端，所述移动槽（3）的内部竖直设有两个滑杆（4），所述滑杆（4）贯穿移动板（6）并与移动板（6）滑动连接，所述滑杆（4）的两端分别固定连接在移动槽（3）的内顶壁与内底壁上，所述移动板（6）的下端设有清洗组件，所述底座（1）的内部设有第一装置腔（18），所述第一装置腔（18）的内底壁上转动连接有转柱（14），所述转柱（14）的上端贯穿第一装置腔（18）的内顶壁并固定连接有转台（13），所述转台（13）的上端固定有四个清洗盒（12），四个所述清洗盒（12）沿转台（13）的上端周向等间距分布，所述第一装置腔（18）的内部设有与转柱（14）、移动板（6）连接的换向组件。

2.根据权利要求1所述的一种卧式晶圆集中清洗设备，其特征在于，所述清洗组件包括固定连接在移动板（6）下端的安装板（8），所述安装板（8）的下端设有摆动腔（21）、装置槽（28），所述安装板（8）的下端固定有两个侧板（34），两个所述侧板（34）分别位于摆动腔（21）的两侧，两个所述侧板（34）之间设有装料机构，所述摆动腔（21）的内部设有冲洗机构，所述装置槽（28）的内部设有与冲洗机构连接的驱动机构，位于装置槽（28）下方的侧板（34）内部设有第二装置腔（35），所述第二装置腔（35）的内部设有与驱动机构、装料机构连接的联动机构。

3.根据权利要求1所述的一种卧式晶圆集中清洗设备，其特征在于，所述换向组件包括设置在第一装置腔（18）内部的第一齿条（17），所述转柱（14）的侧壁上通过单向轴承套装有第一齿轮（16），所述第一齿轮（16）与第一齿条（17）啮合，所述第一齿条（17）的一端固定连接有牵引绳（5），所述牵引绳（5）远离第一齿条（17）的一端贯穿底座（1）并固定连接在移动板（6）的下端，所述第一装置腔（18）的内部设有第一弹簧（19），所述第一弹簧（19）的一端固定连接在第一装置腔（18）的内壁上，所述第一弹簧（19）的另一端固定连接在第一齿条（17）的端部。

4.根据权利要求2所述的一种卧式晶圆集中清洗设备，其特征在于，所述冲洗机构包括水平排列在摆动腔（21）内部的多个喷管（26），所述喷管（26）的下侧壁排列设有多个喷嘴（27），所述喷管（26）的一端转动连接在摆动腔（21）的内壁上，所述喷管（26）的另一端贯穿摆动腔（21）的内壁并延伸至安装板（8）的外部，所述底座（1）的上端设有气罐（10），所述气罐（10）上连接有气阀（11），所述气阀（11）的输出端连接有输气管（9），所述输气管（9）远离气阀（11）的一端与喷管（26）连接，所述喷管（26）的侧壁上固定套接有第二齿轮（25），所述摆动腔（21）的内部水平设有与第二齿轮（25）啮合的第二齿条（24），所述摆动腔（21）的内壁上设有活动槽（22），所述第二齿条（24）的一端滑动插接在活动槽（22）的内部，所述第二齿条（24）的另一端贯穿摆动腔...

【专利技术属性】
技术研发人员：甘志金，赵航，俞荣贵，姚飞宇，
申请(专利权)人：安徽富乐德长江半导体材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：