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本发明公开了一种卧式晶圆集中清洗设备，涉及晶圆清洗技术领域，包括底座，所述底座的上端固定连接有竖架，所述竖架的侧壁上设有移动槽，所述移动槽的内部设有移动板，所述竖架的顶部安装有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的伸缩端向下贯穿竖架并固定连接在移动板...
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