【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学薄膜制造，具体为一种杀毒用紫外滤光片及其镀膜方法。
技术介绍
1、紫外线的效果是破坏生物体的蛋白质结构，从而起到杀菌消毒灭活的效果，由于其不针对性，可以灭活所有生物体，对人体存在危害，因此需要选择一定波长的紫外线进行透过处理，其余波段的紫外光需要截止掉。因为材料的特殊性和稳定性，需要在真空条件下进行分子原子量级的薄膜沉积，真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。
2、而且以前通常采用的是氧化铪和二氧化硅进行镀制，此两种材料的组合存在以下问题：一是在紫外波段220nm之前透过率不高，影响紫外光的透过效率；二是在镜片工作一段时间之后会出现透过率降低，对应特殊波长位置处的透射能量下降严重，这是由于氧化铪和二氧化硅这两种材料所使用的工艺存在严重的镀膜后镜片温漂问题，由于产品所使用的环境存在-40℃至80℃存在一个较大的温度差异，这就对于产品的温度漂移量提出了挑战。
【技术保护点】
1.一种杀毒用紫外滤光片的制备方法，其特征在于，包括以下制备步骤：
2.根据权利要求1所述的一种杀毒用紫外滤光片的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述基板为紫外级熔融石英JGS1。
3.根据权利要求1所述的一种杀毒用紫外滤光片的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述清洗所用的清洗剂为乙醚。
4.根据权利要求1所述的一种杀毒用紫外滤光片的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述超声清洗频率为21kHz、时间为15min。
5.根据权利要求1所述的一种杀毒用紫外滤光片的制备方法，其特征在于，步骤（2）所述离子源清洁的工艺参数：温度...
【技术特征摘要】
1.一种杀毒用紫外滤光片的制备方法，其特征在于，包括以下制备步骤：
2.根据权利要求1所述的一种杀毒用紫外滤光片的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述基板为紫外级熔融石英jgs1。
3.根据权利要求1所述的一种杀毒用紫外滤光片的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述清洗所用的清洗剂为乙醚。
4.根据权利要求1所述的一种杀毒用紫外滤光片的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述超声清洗频率为21khz、时间为15min。
5.根据权利要求1所述的一种杀毒用紫外滤光片的制备方法，其特征在于，步骤（2）所述离子源清洁的工艺参数：温度为400℃、电压为300v、电流为3a、时间为5min。
<...【专利技术属性】
技术研发人员：鲍刚华，曹恒博，万里，
申请(专利权)人：常州市万华激光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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