基站及清洁系统技术方案

本公开实施例提供一种基站及清洁系统，基站包括本体及底座，底座承载本体，本体与底座之间形成容纳腔；清洗槽，设置于底座上且位于容纳腔在底座的投影范围之内，清洗槽内具有第一清洁组件，第一清洁组件被配置为能够以第一运动方式清洁清洁机器人的第一清洁抹布；第二清洁组件，设置于底座上且位于容纳腔在底座的投影范围之外，第二清洁组件被配置为能够以第二运动方式清洁清洁机器人的第二清洁抹布；其中，在执行清洁任务时，第一运动方式为往复直线运动，往复直线运动的运动频率为M；第二运动方式为旋转运动，第二清洁抹布的旋转频率为N，N为M的非整数倍。本公开基站能够对第一清洁抹布和第二清洁抹布稳定清洁。

【技术实现步骤摘要】

本公开属于清洁设备相关，具体涉及一种基站及清洁系统。

技术介绍

1、清洁设备，例如扫地机器人等，通常具有拖地的大抹布，用于对地面进行清扫作业，清洁设备设置有尘盒和水箱，清洁设备在清扫过程中收集的灰尘、污水等脏污被收集在尘盒内，清洁设备上的水箱用于在清洁设备拖地时向大抹布供水，保证清洁效果。清洁设备清洁完毕后需要对接基站，基站可以给清洁设备清洗拖布、充电等。

2、基站一般包括底座，底座上设有清洗腔，清洗腔内设置清洁组件来清洁大抹布，现有基站通常具有单一抹布清洗功能，在清洗腔内设置清洁组件对拖地大抹布进行清洁，然而随着清洁设备的发展，不少清洁设备除了具有大抹布外，还具有小抹布，现有基站无法对设置有小抹布的清洁设备进行清洁，也无法兼顾大小抹布的清洁。

技术实现思路

1、本公开的目的在于提供一种基站及清洁系统，至少能够解决基站对大小抹布兼容清洁的技术问题。具体方案如下：

2、根据本公开的具体实施方式，本公开提供一种清洁机器人用基站，所述基站包括：

3、本体及底座，所述底座承载所述本本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述基站包括：

2.根据权利要求1所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述第二清洁抹布的旋转速度为160-260转/分。

3.根据权利要求1所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述第二清洁组件包括：

4.根据权利要求3所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述污水槽内具有弹性件，所述清洗板与所述弹性件连接。

5.根据权利要求3所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，

6.根据权利要求3所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述污水槽具有非闭合侧壁，所述清洗板与所述污水槽的侧壁之间...

【技术特征摘要】

1.一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述基站包括：

2.根据权利要求1所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述第二清洁抹布的旋转速度为160-260转/分。

3.根据权利要求1所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述第二清洁组件包括：

4.根据权利要求3所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述污水槽内具有弹性件，所述清洗板与所述弹性件连接。

5.根据权利要求3所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，

6.根据权利要求3所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述污水槽具有非闭合侧壁，所述清洗板与所述污水槽的侧壁之间具有间隙，所述间隙用于排出所述清洗板上的污水。

7.根据权利要求3所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述清洗板包括多个凸起，设置于所述清洗板的非中心位置，被配置为能够通过摩擦清洁所述第二清洁抹布。

8.根据权利要求7所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述凸起的分布密度为1个/cm2-6个/cm2，所述凸起的高度为1mm-3mm。

9.根据权利要求3所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述清洗板还包括：

10.根据权利要求9所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述清洗板还包括：

11.根据权利要求7所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，所述清洗板还包括：

12.根据权利要求6所述的一种清洁机器人用基站，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜帅，苏政，张闫，张青，朱翊铭，
申请(专利权)人：追觅创新科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：