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本公开实施例提供一种基站及清洁系统，基站包括本体及底座，底座承载本体，本体与底座之间形成容纳腔；清洗槽，设置于底座上且位于容纳腔在底座的投影范围之内，清洗槽内具有第一清洁组件，第一清洁组件被配置为能够以第一运动方式清洁清洁机器人的第一清洁抹...
该专利属于追觅创新科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过追觅创新科技（苏州）有限公司授权不得商用。

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