烹调器具及其制造方法技术

本发明专利技术的烹调器具，具备基体和在该基体表面上形成的薄膜，所述薄膜，含有硅（Ｓｉ）、锆（Ｚｒ）和氧（Ｏ），分别将所述硅（Ｓｉ）换算成氧化硅（ＳｉＯ↓［２］）、将所述锆（Ｚｒ）换算成氧化锆（ＺｒＯ↓［２］）时，所述氧化硅（ＳｉＯ↓［２］）相对于所述氧化锆（ＺｒＯ↓［２］）和所述氧化硅（ＳｉＯ↓［２］）的总量的重量百分率为５０重量％以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种烹调器具，具备基体和在该基体表面上形成的薄膜，其特征在于，所述薄膜，含有硅（Ｓｉ）、锆（Ｚｒ）和氧（Ｏ），分别将所述硅（Ｓｉ）换算成氧化硅（ＳｉＯ↓［２］）、将所述锆（Ｚｒ）换算成氧化锆（ＺｒＯ↓［２］）时，所述氧化硅（ＳｉＯ↓［２］）相对于所述氧化锆（ＺｒＯ↓［２］）和所述氧化硅（ＳｉＯ↓［２］）的总量的重量百分率为５０重量％以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：茂启二郎，前田大作，目次康格，矢泽朗，丸山大志，
申请(专利权)人：住友大阪水泥股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]