【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种检漏方法的，具体涉及一种用于半导体设备真空系统的简易检漏方法。
技术介绍
1、真空系统对于绝大多数半导体设备来说是不可或缺的，尤其是刻蚀和镀膜相关工艺的设备，在这些设备中，真空系统的稳定性对其产品质量和生产效率有着至关重要的影响；在部分刻蚀设备中，真空系统的稳定性甚至还能直接关系到设备的安全。
2、真空漏率是评估真空系统性能的重要指标之一，在实际应用中，通常会使用专用仪器来进行检漏，但这些仪器往往价格高昂、使用成本高、对操作人员的专业度要求高，对于一些研究机构或单位来说一般不会配备检漏仪。另外一种检漏的方式是人为通过设备的历史真空数据在一定时间内增长的幅度来判断真空系统的泄漏情况，但这种方式需要人工手动进行操作，无法全面的对整个真空系统进行评估，且检漏的误差很大。
技术实现思路
1、为克服上述诸多问题，本专利技术的目的在于提供一种用于半导体设备真空系统的简易检漏方法，通过控制系统直接读取设备真空计的数据，降低漏率计算的误差。
2、为了达到以上目的，...
【技术保护点】
1.一种用于半导体设备真空系统的简易检漏方法，其特征在于，半导体设备内设置有控制系统，真空系统包括工艺气体管路、真空腔体、抽气管路、真空计、阻抽阀、真空泵、MFC、源瓶、手阀、隔膜阀、ALD阀、N2管路、O3管路，所述控制系统嵌入漏率测试的逻辑控制程序及算法，并对真空系统的各元件进行控制和数据采集，漏率测试的结果通过漏率测试界面展示，具体步骤包括：
2.根据权利要求1所述的一种用于半导体设备真空系统的简易检漏方法，其特征在于，所述步骤a中在点击漏率测试按钮时也会进行各气体管路前端的开关阀是否关闭的提醒并进行确认。
3.根据权利要求1所述的一种用...
【技术特征摘要】
1.一种用于半导体设备真空系统的简易检漏方法，其特征在于，半导体设备内设置有控制系统，真空系统包括工艺气体管路、真空腔体、抽气管路、真空计、阻抽阀、真空泵、mfc、源瓶、手阀、隔膜阀、ald阀、n2管路、o3管路，所述控制系统嵌入漏率测试的逻辑控制程序及算法，并对真空系统的各元件进行控制和数据采集，漏率测试的结果通过漏率测试界面展示，具体步骤包括：
2.根据权利要求1所述的一种用于半导体设备真空系统的简易检漏方...
【专利技术属性】
技术研发人员：张洪国，汤晨宇，徐冉，房雷，韩盟，
申请(专利权)人：江苏鹏举半导体设备技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。