大尺寸异形平面光栅面型测量装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种大尺寸异形平面光栅面型测量装置，包括干涉仪、与所述干涉仪位置对应的调整定位机构以及设置在所述调整定位机构上的固定框；其中，在所述固定框上开设有与待测光栅相适配的卡槽，所述待测光栅卡装在所述卡槽内并通过所述固定框上的定位件进行定位；并且，所述待测光栅通过所述调整定位机构配合所述固定框进行摆放姿态调整。本发明专利技术提供的大尺寸异形平面光栅面型测量装置及方法既能够有效提升大尺寸异形平面光栅的面型测量精度，又能够有效确保平面光栅的安全。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及超精密位移测量，更为具体地，涉及一种大尺寸异形平面光栅面型测量装置及方法。

技术介绍

1、在高端光刻机中，超精密运动台是核心子系统。而超精密运动台则需要高精度的平面光栅位移测量系统作为支撑，其中的平面光栅是光刻机核心子系统中的核心部件。

2、随着光刻工艺的发展，人们对平面光栅的性能需求在不断提高，相应的，对平面光栅技术指标的测量难度也会随之增大。光学元件面型是指元件表面的面型精度，是光学元件(如平面光栅)的重要技术指标之一，关系到光学元件实际使用的性能，通常情况下，本领技术人员一般使用菲索干涉仪对光学元件的面型进行测量。

3、然而，对于大口径平面光栅的面型测量，由于光栅尺寸很大，因此需要大口径卧式干涉仪对其进行测量，即测试时平面光栅立放于干涉仪标准镜前。但由于平面光栅宽厚大，且不属于圆形、矩形的标准形状(属于异形结构)，因此在装卡测量时容易受到来自装卡工装的压力，以及重力的影响带来较大的面型精度误差，所以需要专门开发匹配大尺寸异形光栅的低应力测试工装。

4、另外，大尺寸平面光栅的表面极为脆弱，禁止硬物直接接本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种大尺寸异形平面光栅面型测量装置，其特征在于，包括干涉仪、与所述干涉仪位置对应的调整定位机构以及设置在所述调整定位机构上的固定框；其中，

2.如权利要求1所述的大尺寸异形平面光栅面型测量装置，其特征在于，

3.如权利要求1所述的大尺寸异形平面光栅面型测量装置，其特征在于，

4.如权利要求2所述的大尺寸异形平面光栅面型测量装置，其特征在于，

5.如权利要求4所述的大尺寸异形平面光栅面型测量装置，其特征在于，

6.如权利要求5所述的大尺寸异形平面光栅面型测量装置，其特征在于，

7.如权利要求1至6中任意一项所述的大...

【技术特征摘要】

1.一种大尺寸异形平面光栅面型测量装置，其特征在于，包括干涉仪、与所述干涉仪位置对应的调整定位机构以及设置在所述调整定位机构上的固定框；其中，

2.如权利要求1所述的大尺寸异形平面光栅面型测量装置，其特征在于，

3.如权利要求1所述的大尺寸异形平面光栅面型测量装置，其特征在于，

4.如权利要求2所述的大尺寸异形平面光栅面型测量装置，其特征在于，

5.如权利要求4所述的大尺寸异形平面光栅面型测量装置，其特征在于，

6...

【专利技术属性】
技术研发人员：李冰，付大为，刘景涛，
申请(专利权)人：北京华卓精科科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：