大尺寸平面光栅栅距测量装置及其测量方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种大尺寸平面光栅栅距测量装置，包括干涉仪、三维调整架、设置在所述三维调整架上的V型支架以及设置在所述V型支架上的夹持工装；其中，待测大尺寸异形光栅固定在所述夹持工装上，所述待测大尺寸异形光栅与所述干涉仪前后位置对应，所述待测大尺寸异形光栅通过所述三维调整架配合所述V型支架调整光栅姿态。本发明专利技术提供的大尺寸平面光栅栅距测量装置及其测量方法既能够有效提升大尺寸异形平面光栅的栅距测量精度，又能够有效确保平面光栅的安全。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光栅性能检测，更为具体地，涉及一种大尺寸平面光栅栅距测量装置及其测量方法。

技术介绍

1、在高端光刻机中，超精密运动台是核心子系统。能够满足数百毫米量程、亚纳米级分辨率、纳米级精度的位移测量系统才能支持超精密运动。目前能够达到要求的位移测量系统是光栅尺测量系统。它的测量光程短，只有几毫米，因此它的测量精度对测量环境不敏感，具有测量稳定性高，结构简单等优点。

2、光栅测量的缺点是线性度较差，这是由于光栅制造工艺误差，测量精度存在误差累积效应。因此要想使用光栅尺，同时获得纳米级的测量精度和测量重复精度，则需要考虑光栅栅距误差对测量的影响。

3、光栅栅距是光栅在某一栅线方向上每条栅线之间的间隔距离，是光栅的重要技术指标之一，通常测量光栅栅距使用扫描电子显微镜。扫描电子显微镜通过电子束以光栅状扫描方式照射到被分析式样的表面上，获得式样表面组织结构和形貌信息。虽然其可以直观的获得光栅栅距，但是使用电子束扫描的工作方式决定了它的工作视场较小。目前国内外各个厂家的扫描电镜产品，最大的装载台尺寸也不超过200mm，而在一些实际应用场景本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种大尺寸平面光栅栅距测量装置，其特征在于，包括干涉仪、三维调整架、设置在所述三维调整架上的V型支架以及设置在所述V型支架上的夹持工装；其中，

2.如权利要求1所述的大尺寸平面光栅栅距测量装置，其特征在于，

3.如权利要求2所述的大尺寸平面光栅栅距测量装置，其特征在于，

4.如权利要求3所述的大尺寸平面光栅栅距测量装置，其特征在于，

5.如权利要求1所述的大尺寸平面光栅栅距测量装置，其特征在于，

6.如权利要求1所述的大尺寸平面光栅栅距测量装置，其特征在于，

7.如权利要求6中所述的大尺寸平面光栅栅距测量装置，其...

【技术特征摘要】

1.一种大尺寸平面光栅栅距测量装置，其特征在于，包括干涉仪、三维调整架、设置在所述三维调整架上的v型支架以及设置在所述v型支架上的夹持工装；其中，

2.如权利要求1所述的大尺寸平面光栅栅距测量装置，其特征在于，

3.如权利要求2所述的大尺寸平面光栅栅距测量装置，其特征在于，

4.如权利要求3所述的大尺寸平面光栅栅距测量装置，其特征在于，

5.如权利要求1所述的大尺寸平面光栅栅距测量装置，其特征在于，

6.如权利要求1所述的大尺寸平面光栅栅距...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘景涛，付大为，李腾飞，
申请(专利权)人：北京华卓精科科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：