颜色可调像素的紧凑阵列制造技术

技术编号:44411366 阅读:26 留言:0更新日期:2025-02-25 10:25
提供了一种单片集成的红绿蓝(RGB)发光二极管(LED)阵列,其被制造具有减少数量的台面蚀刻步骤和接触端子。LED阵列可以具有在晶片上顺序生长的两个或三个p‑n结。其中一个p‑n结具有与n层和p层相反的沉积顺序。发光有源区嵌入在每个p‑n结的n层和p层之间。每个有源区发射不同波长的光。晶片被蚀刻成多级台面,从而创建两个独立的电压端子和一个接地接触,以控制特定半导体层之间的偏置。所有p‑n结共享公共接地接触。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开的实施例总体上涉及发光二极管(led)器件阵列及其制造方法。更特别地,实施例针对单片集成的红、绿、蓝(rgb)发射器阵列,其具有减少数量的台面蚀刻步骤和接触端子。


技术介绍

1、诸如虚拟现实系统和增强现实系统的可视化系统在诸如娱乐、教育、医学和商业之类的领域中正变得越来越普遍。存在持续的努力来改进可视化系统(诸如虚拟现实系统和增强现实系统)。

2、微led(μled)可以是小尺寸的led(通常直径为~50μm或更小),当红色、绿色和蓝色波长的μled可以紧密排列时,它们可以用于产生非常高分辨率的彩色显示器。μled显示器的制造通常涉及从单独的蓝色、绿色和红色wl晶片中挑选出已切单的μled,并将它们在显示器上交替紧密排列。

3、对要求微观像素间距的高分辨率彩色led显示器存在兴趣。当led的尺寸在几十微米或更小的范围内时,组装生长在单独晶片上的红色、绿色和蓝色led变得困难。单片rgb集成是一种方法,它避免了将微观led操纵到显示器上正确位置中的问题,但也带来了其自己的一系列挑战。当前的单片rgb阵列需要至少三个偏置端子加上一本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种发光二极管(LED)阵列,包括:

2.根据权利要求1所述的LED阵列,进一步包括围绕所述第一发光堆叠、所述第二发光堆叠和所述第三发光堆叠的电介质层。

3.根据权利要求2所述的LED阵列,进一步包括在所述电介质层上的反射金属层。

4.根据权利要求1所述的LED阵列,其中所述第一发光堆叠和所述第二发光堆叠共享连接到第二电接触的第二n型层。

5.根据权利要求4所述的LED阵列,其中当所述第一发光堆叠和所述第二发光堆叠被并联驱动时,发射的聚合颜色由电压控制。

6.根据权利要求1所述的LED阵列,进一步包括电极网格。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种发光二极管(led)阵列,包括:

2.根据权利要求1所述的led阵列,进一步包括围绕所述第一发光堆叠、所述第二发光堆叠和所述第三发光堆叠的电介质层。

3.根据权利要求2所述的led阵列,进一步包括在所述电介质层上的反射金属层。

4.根据权利要求1所述的led阵列,其中所述第一发光堆叠和所述第二发光堆叠共享连接到第二电接触的第二n型层。

5.根据权利要求4所述的led阵列,其中当所述第一发光堆叠和所述第二发光堆叠被并联驱动时,发射的聚合颜色由电压控制。

6.根据权利要求1所述的led阵列,进一步包括电极网格。

7.根据权利要求1所述的led阵列,其中所述第一n型层、所述第二n型层和所述第三n型层独立地包括氮化镓(gan)、氮化铝(aln)、氮化铟(inn)、氮化镓铝(gaaln)、氮化镓铟(gainn)、氮化铝镓(algan)、氮化铝铟(alinn)、氮化铟镓(ingan)、氮化铟铝(inaln)等中的一种或多种。

8.根据权利要求7所述的led阵列,其中所述第一n型层、所述第二n型层和所述第三n型层包括氮化镓(gan)。

9.根据权利要求1所述的led阵列,其中所述第一电接触、所述第二电接触和所述第三电接触独立地包括铝。

10.根据权利要求1所述的led阵列,其中所述反射p接触电极包括铝(al)、铂(pt)、银(ag)中的一种或多种。

11.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:R·阿米蒂奇
申请(专利权)人:亮锐有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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