【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体设备,具体为一种化学品供液装置。
技术介绍
1、半导体行业需要用到多种化学液,例如在半导体气相沉积工艺中,需要利用化学品供液装置将液态化学品输送至反应室中,以便在反应室中进行化学气相沉积。化学品供液装置输送液态化学品的精确度和稳定性直接影响到化学气相沉积时半导体基底上生长薄膜材料的厚度和成分,从而直接影响半导体芯片的性能。
2、一般地,化学品供液装置不能连续自动供应多种化学品,只能供应单一的化学品。在需要更换化学品种类时需要频繁清洗供液管道,造成化学品浪费严重、生产效率较低等。
技术实现思路
1、基于此,有必要针对上述问题,提供一种能够降低清洗管道频率,从而避免化学品浪费,提高生产效率的化学品供液装置。
2、一种化学品供液装置,包括:
3、供液单元,包括至少两个供液组件,每一所述供液组件包括供液罐、驱动管路和供液管路,所述供液罐具有第一进气口和第一出液口,所述驱动管路与所述第一进气口连通,用于通过所述第一进气口向所述供液罐内注入驱动气体,
...【技术保护点】
1.一种化学品供液装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的化学品供液装置,其特征在于,所述供液组件(20)的所述供液管路(23)包括供液主管路(231)和多个供液支管路(233),所述供液主管路(231)的一端与所述第一出液口(a2)连通,各个所述供液支管路(233)均与所述供液主管路(231)连通,且均用于将所述供液主管路(231)内的液态化学品向下游进行输送;
3.根据权利要求2所述的化学品供液装置,其特征在于,所述供液管路(23)还包括安装在所述供液主管路(231)上的第三控制阀(234),所述供液组件(20)还包括气液分离管路
...【技术特征摘要】
1.一种化学品供液装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的化学品供液装置,其特征在于,所述供液组件(20)的所述供液管路(23)包括供液主管路(231)和多个供液支管路(233),所述供液主管路(231)的一端与所述第一出液口(a2)连通,各个所述供液支管路(233)均与所述供液主管路(231)连通,且均用于将所述供液主管路(231)内的液态化学品向下游进行输送;
3.根据权利要求2所述的化学品供液装置,其特征在于,所述供液管路(23)还包括安装在所述供液主管路(231)上的第三控制阀(234),所述供液组件(20)还包括气液分离管路(24),所述气液分离管路(24)包括第一连接管路(241)、气液分离器(242)和第二连接管路(243),所述气液分离器(242)具有第二进液口、第二出液口和第一排气口,所述气液分离器(242)用于对由所述第二进液口进入的液态化学品进行气液分离,并将分离出的气体由所述第一排气口排出;所述第一连接管路(241)连接在所述供液主管路(231)位于所述第三控制阀(234)上游的部位与所述第二进液口之间,所述第二连接管路(243)连接在所述供液主管路(231)位于所述第三控制阀(234)下游的部位与所述第二出液口之间。
4.根据权利要求3所述的化学品供液装置,其特征在于,所述气液分离器(242)还具有抽真空口,所述气液分离管路(24)还包括抽真空管路(244),所述抽真空管路(244)与所述抽真空口连通,用于通过所述抽真空口对所述气液分离器(242)抽真空。
5.根据权利要求1所述的化学品供液装置,其特征在于,每一所述供液组件(20)还包括原液罐(25)、通液管路(26)和通气管路(27),所述原液罐(25)具有第二进气口(b1)和进出液口(b2),所述供液罐(21)还具有第一进液口(a3);
【专利技术属性】
技术研发人员:朱锈杰,
申请(专利权)人:吉姆西半导体科技无锡股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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