设计规则检查工具的验证方法、装置、设备、介质及产品制造方法及图纸

本申请公开了一种设计规则检查工具的验证方法、装置、设备、介质及产品，涉及芯片版图的检查技术领域。该设计规则检查工具的验证方法包括：根据芯片版图设计规则检查工具的工具属性，构建与工具属性对应的测试布局层次，工具属性用于表征芯片版图设计规则检查工具能够处理的芯片布局层次的特征；根据芯片版图对应的版图设计规则中包括的各版图设计参数，创建每个版图设计参数在测试布局层次下对应的多条测试用例，版图设计规则用于表征对芯片版图的设计内容的强制性规定集合；通过芯片版图设计规则检查工具分别执行各测试用例，确定芯片版图设计规则检查工具的工具可靠性。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于芯片版图的检查，尤其涉及一种设计规则检查工具的验证方法、装置、设备、介质及产品。

技术介绍

1、集成电路芯片在批量制造前，需要使用版图检查工具对芯片版图进行设计规则检查(design rule check，drc)，只有通过设计规则检查的芯片版图才能保证流片的成功。为了保证芯片版图检查结果的准确性，需要预先对版图检查工具进行可靠性验证。

2、现有方法中，依赖于人工输入测试用例，根据测试用例对版图检查工具进行可靠性验证。

3、然而，人工输入的测试用例类型较为单一，易出现测试类型不全、测试覆盖率较低的问题，致使版图检查工具的验证可靠性较差。

技术实现思路

1、本申请实施例提供了一种设计规则检查工具的验证方法、装置、设备、介质及产品，能够提高设计规则检查工具的验证可靠性。

2、本申请实施例的一方面，提供一种设计规则检查工具的验证方法，包括：

3、根据芯片版图设计规则检查工具的工具属性，构建与工具属性对应的测试布局层次，工具属性用于表征芯片版图设计规则检查工具本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种设计规则检查工具的验证方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述多条测试用例为真实用例或拓展用例；

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述多条测试用例为所述拓展用例；

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述多条拓展用例包括正向拓展用例以及反向拓展用例，所述正向测试用例用于表征满足所述版图设计规则的有效值构成的拓展用例，所述反向测试用例用于表征不满足所述版图设计规则的无效值构成的拓展用例；

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述拓展用例包括第一拓展用例以及第二拓展用例；

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【技术特征摘要】

1.一种设计规则检查工具的验证方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述多条测试用例为真实用例或拓展用例；

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述多条测试用例为所述拓展用例；

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述多条拓展用例包括正向拓展用例以及反向拓展用例，所述正向测试用例用于表征满足所述版图设计规则的有效值构成的拓展用例，所述反向测试用例用于表征不满足所述版图设计规则的无效值构成的拓展用例；

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述拓展用例包括第一拓展用例以及第二拓展用例；

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过所述芯片版图设计规则检查工具分别执行各所述测试用例，确定所述芯片版图设计规则检查工具的工具可靠性，包括：

7.根据权利要求1-6任意一项所述的方...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈新梅，
申请(专利权)人：深圳晶源信息技术有限公司，
类型：发明
国别省市：

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