一种硅片输送机构制造技术

本技术属于硅片输送技术领域，具体涉及一种硅片输送机构，本装置包括：一种硅片输送机构，包括：若干第一传送组件，其两侧设置有若干第二传送组件；架设在第一传送组件和第二传送组件上方的水平移动副，水平移动副上水平移动副的移动端设置有若干吸附组件，其中，第一传送组件、第二传送组件和吸附组件的数量相同；通过在水平移动副的移动端设置若干吸附组件，能够对第二传送组件上的硅片进行吸附后平移至第一传送组件；第一传送组件的两侧分别设置第二传送组件，通过第二传送组件能够对设备内的硅片进行接收，并由靠近的第一传送组件负责输出。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于硅片输送，具体涉及一种硅片输送机构。

技术介绍

1、硅片各个设备时间需要通过传送带来进行输送，如果前道工序出片较快，会造成硅片的堆积，影响生产效率；

2、因此，如何避免硅片发生堆积是领域亟需解决的技术问题。

技术实现思路

1、本技术的目的是提供一种硅片输送机构。

2、为了解决上述技术问题，本技术提供了一种硅片输送机构，包括：若干第一传送组件，其两侧设置有若干第二传送组件；架设在所述第一传送组件和所述第二传送组件上方的水平移动副，所述水平移动副上所述水平移动副的移动端设置有若干吸附组件，其中，所述第一传送组件、所述第二传送组件和所述吸附组件的数量相同。

3、作为优选，所述水平移动副镜像设置有一对，并且每个所述水平移动副上的所述吸附组件与所述第二传送组件的数量相同。

4、作为优选，所述吸附组件包括吸附支板、吸附支架和吸附底板；所述吸附支板设置在所述水平移动副的移动端，所述吸附支架设置在所述吸附支板的侧壁，所述吸附底板滑动设置在所述吸附支架的底部。

<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种硅片输送机构，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的硅片输送机构，其特征在于，

3.如权利要求1所述的硅片输送机构，其特征在于，

4.如权利要求3所述的硅片输送机构，其特征在于，

5.如权利要求4所述的硅片输送机构，其特征在于，

6.如权利要求1所述的硅片输送机构，其特征在于，

7.如权利要求1所述的硅片输送机构，其特征在于，

8.如权利要求7所述的硅片输送机构，其特征在于，

9.如权利要求1所述的硅片输送机构，其特征在于，

10.如权利要求9所述的硅片输送机构，其特征...

【技术特征摘要】

1.一种硅片输送机构，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的硅片输送机构，其特征在于，

3.如权利要求1所述的硅片输送机构，其特征在于，

4.如权利要求3所述的硅片输送机构，其特征在于，

5.如权利要求4所述的硅片输送机构，其特征在于，

【专利技术属性】
技术研发人员：贺国梁，曹振华，上官泉元，
申请(专利权)人：常州比太科技有限公司，
类型：新型
国别省市：

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