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本技术属于硅片输送技术领域，具体涉及一种硅片输送机构，本装置包括：一种硅片输送机构，包括：若干第一传送组件，其两侧设置有若干第二传送组件；架设在第一传送组件和第二传送组件上方的水平移动副，水平移动副上水平移动副的移动端设置有若干吸附组件，其...
该专利属于常州比太科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州比太科技有限公司授权不得商用。

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