【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光刻领域，包含图像处理算法，具体为一种用于投影光刻机同轴模糊图像的标记对准方法，用于实现投影光刻机中同轴图像对准。
技术介绍
1、在集成电路制造过程中，投影光刻机的同轴对准技术起着至关重要的作用。然而，这一过程面临诸多挑战，尤其是因为工件台对准板的图像必须经过物镜传输至ccd相机。这一光学路径的复杂性导致图像模糊和失真，从而影响对准的精度。同时，低反射率的光源也加剧了这一问题。由于工件台对准板标记反射率有限，光源的反射率不足使得成像信号微弱，进一步导致图像细节缺失，降低了关键特征的可见性。
2、在光线穿过物镜时，任何光学误差或畸变都可能使图像质量下降，加上光源反射率低，模糊和背景干扰的问题变得尤为明显。这使得传统的对准算法在处理这些复杂的图像环境时，往往难以准确识别掩膜与工件台对准板的标记图案，导致对准精度不足，增加了生产过程的不确定性，并可能造成套刻误差，影响最终产品的性能和良率。现有的光刻对准算法通常依赖局部特征或简单的阈值处理进行二值化，然而，由于光源反射率低和硅片图像经过物镜所造成的模糊，传统方法难以适...
【技术保护点】
1.一种用于投影光刻机同轴模糊图像的标记对准方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种用于投影光刻机同轴模糊图像的标记对准方法，其特征在于：所述步骤S2 包括以下步骤：
3.根据权利要求2所述的一种用于投影光刻机同轴模糊图像的标记对准方法，其特征在于：所述步骤S3包括以下步骤：
4.根据权利要求3所述的一种用于投影光刻机同轴模糊图像的标记对准方法，其特征在于：所述步骤S4包括以下步骤：
5.根据权利要求4所述的一种用于投影光刻机同轴模糊图像的标记对准方法，其特征在于：所述步骤S5包括以下步骤：
6.根...
【技术特征摘要】
1.一种用于投影光刻机同轴模糊图像的标记对准方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种用于投影光刻机同轴模糊图像的标记对准方法，其特征在于：所述步骤s2 包括以下步骤：
3.根据权利要求2所述的一种用于投影光刻机同轴模糊图像的标记对准方法，其特征在于：所述步骤s3包括以下步骤：
4.根据权利要求3所述的一种用于投影光刻机同轴模糊图像的标记对准方法，其特征在于：所述步骤s4包括以下步骤：
5.根据权利要求4所述的一种用于投影光刻机同轴模糊图像的标记对准方法，其特征在于：所述步骤s5包括以下步骤：
6.根据权利要求5所述的一种用于投影光刻机同轴模糊图像的标记对准方法，其特征在于：步骤s22...
【专利技术属性】
技术研发人员：李昱阳，俞大杰，孙海峰，李艳丽，康霞，龚健文，杨瑞琳，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：
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