本申请涉及气溶胶生成技术领域，提供一种气溶胶生成基质、气溶胶生成制品以及电子雾化装置，气溶胶生成基质包括基础部和多个子单元，多个子单元位于基础部沿第一方向的外侧，多个子单元沿基础部的第二方向间隔设置，相邻的两个子单元之间的空间为间隙空间，其中，第一方向和第二方向相交。子单元的外表面先接收热量再传递至基础部，热量由外至内传递，气溶胶生成基质具有间隙空间，间隙空间起到汇集和流通气溶胶的作用，子单元的释烟方向不单包括向外、向内，还可以向第二方向两侧的间隙空间释放气溶胶，畅通了气溶胶的释放路径，避免气溶胶无法及时释放的情况，因此，可以提高气溶胶的提取效率。
【技术实现步骤摘要】
本申请涉及气溶胶生成，特别是涉及气溶胶生成基质、气溶胶生成制品以及电子雾化装置。
技术介绍
1、气溶胶生成基质可以通过点燃的方式形成气溶胶，或者通过加热而不燃烧的方式形成气溶胶。以加热而不燃烧的气溶胶生成基质为例，气溶胶生成基质利用外部热源加热，使气溶胶生成基质刚好加热到足以散发出气溶胶的程度，气溶胶生成基质不会燃烧，使用时通过加热气溶胶生成基质释放气溶胶。
2、相关技术中，气溶胶生成基质的实体介质的密度较高，导致气溶胶无法及时释放出来，气溶胶的提取效率大大降低。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请实施例期望提供一种能够提高气溶胶提取效率的气溶胶生成基质、气溶胶生成制品以及电子雾化装置。
2、为达到上述目的，本申请实施例提供了一种气溶胶生成基质，包括：
3、基础部；
4、多个子单元，位于所述基础部沿第一方向的外侧，多个所述子单元沿所述基础部的第二方向间隔设置，相邻的两个所述子单元之间的空间为间隙空间，其中，第一方向和第二方向相交。
>5、一些实施例中，本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种气溶胶生成基质，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的气溶胶生成基质，其特征在于，所述子单元包括第一部分和第二部分，所述第二部分和所述第一部分沿第一方向排列，所述第一部分沿第二方向的尺寸大于所述第二部分沿第二方向的尺寸；
3.根据权利要求2所述的气溶胶生成基质，其特征在于，所述子单元包括一个所述第一部分和多个所述第二部分，多个所述第二部分沿第二方向间隔布置并位于所述第一部分的内侧，所述第二部分连接所述基础部和所述第一部分。
4.根据权利要求2所述的气溶胶生成基质，其特征在于，相邻的两个所述第一部分沿第二方向的间距为第一间距，所述第一部分沿...
【技术特征摘要】
1.一种气溶胶生成基质，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的气溶胶生成基质，其特征在于，所述子单元包括第一部分和第二部分，所述第二部分和所述第一部分沿第一方向排列，所述第一部分沿第二方向的尺寸大于所述第二部分沿第二方向的尺寸；
3.根据权利要求2所述的气溶胶生成基质，其特征在于，所述子单元包括一个所述第一部分和多个所述第二部分，多个所述第二部分沿第二方向间隔布置并位于所述第一部分的内侧，所述第二部分连接所述基础部和所述第一部分。
4.根据权利要求2所述的气溶胶生成基质，其特征在于，相邻的两个所述第一部分沿第二方向的间距为第一间距，所述第一部分沿第二方向的尺寸与所述第一间距的比值在10:1至1:1之间。
5.根据权利要求2所述的气溶胶生成基质，其特征在于，所述第一部分的壁厚为0.1mm至0.5mm。
6.根据权利要求2所述的气溶胶生成基质，其特征在于，所述第二部分沿第一方向的尺寸为0.5mm至5mm。
7.根据权利要求2所述的气溶胶生成基质，其特征在于，所述第一部分沿第二方向的尺寸与所述第二部分沿第一方向的尺寸的比值为1:2至2:1。
8.根据权利要求1所述的气溶胶生成基质，其特征在于，所述气溶胶生成基质的最大壁厚与最小壁厚两者之差为第一差值，所述第一差值与所述气溶胶生成基质的最小壁厚的百分比为0％至100％。
9.根据权利要求1所述的气溶胶生成基质，其特征在于，以垂直于第三方向的平面为投影面，所述气溶胶生成基质的投影形状的水力直径为5mm至15mm。
【专利技术属性】
技术研发人员：李航，刘鸣，李永福，宋彬，陈孝培，倪军，汤建国，
申请(专利权)人：思摩尔国际控股有限公司，
类型：发明
国别省市：
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