气溶胶产生装置及微波加热组件制造方法及图纸

技术编号:46512077 阅读:2 留言:0更新日期:2025-09-30 18:42
本发明专利技术涉及气溶胶产生装置及微波加热组件,微波加热组件,包括外导体单元,包括敞口设置的第一端部以及第二端部;所述第一端部与所述第二端部相对设置,所述外导体单元中设置有容置腔,所述容置腔位于所述第一端部与所述第二端部之间,所述容置腔中形成有基质区;内导体单元,至少部分从所述第二端安装至所述容置腔中,并与所述第二端部电连接;其包括主体部以及辐射部;所述辐射部位于所述容置腔中,设置于至少部分所述主体部的至少一侧且朝所述基质区凸出,在所述容置腔的周向上,与所述基质区相对移动设置。微波加热组件实现置于基质区中的气溶胶生成基质可被分区加热,且内导体单元可间断工作。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及雾化领域,尤其涉及气溶胶产生装置及微波加热组件


技术介绍

1、目前,加热不燃烧技术的加热温度一般在250 350℃之间,相对于普通燃烧气溶胶生成基质,加热不燃烧气溶胶生成基质在保留传统气溶胶生成基质口味的同时,可大幅度减小介质中的有害物质的释放。微波加热技术被应用于气溶胶产生装置中,采用微波加热技术的气溶胶产生装置具有加热效率高,气溶胶产生快的优势,其原理为使用特定加热体如电阻、电磁、热风、微波、激光等,通过导热、对流及辐射传热方式将热量传递至气溶胶生成基质并使之升温进一步产生既定的气溶胶成分。

2、现有的气溶胶产生装置中内导体与气溶胶生成基质相对位置是固定的,内导体通过热传递的方式将气溶胶生成基质加热,气溶胶生成基质温度与到内导体的距离成反比。为了充分释放气溶胶以及少等待,在单支气溶胶生成基质加热时内导体无法间断工作必须连续工作至抽完一整支气溶胶生成基质,同时考虑对口感的影响内导体温度要控制在一定范围,从而导致热量散失严重且部分气溶胶生成基质的气溶胶无法充分释放。


技术实现思路</b>

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种微波加热组件,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的微波加热组件,其特征在于,所述主体部(31)至少部分设置于所述容置腔(14)中,并在所述第二端部(21a)以及所述第一端部(21b)之间延伸,且与所述容置腔(14)同轴设置;

3.根据权利要求1所述的微波加热组件,其特征在于,还包括设置于所述外导体单元(20)中的基质固定单元(10),所述容置腔(14)形成于所述基质固定单元(10)中;所述基质固定单元(10)包括第一端(10a)以及与所述第一端(10a)相对设置的第二端(10b);所述第一端(10a)设置有与所述容置腔(14)连通的开口(15);<...

【技术特征摘要】

1.一种微波加热组件,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的微波加热组件,其特征在于,所述主体部(31)至少部分设置于所述容置腔(14)中,并在所述第二端部(21a)以及所述第一端部(21b)之间延伸,且与所述容置腔(14)同轴设置;

3.根据权利要求1所述的微波加热组件,其特征在于,还包括设置于所述外导体单元(20)中的基质固定单元(10),所述容置腔(14)形成于所述基质固定单元(10)中;所述基质固定单元(10)包括第一端(10a)以及与所述第一端(10a)相对设置的第二端(10b);所述第一端(10a)设置有与所述容置腔(14)连通的开口(15);

4.根据权利要求1所述的微波加热组件,其特征在于,所述容置腔(14)设置有环状的支撑结构(70),所述支撑结构(70)套设于所述内导体单元(30)的外周。

5.根据权利要求1所述的微波加热组件,其特征在于,所述容置腔(14)设置有定向导气结构(80);所述定向导气结构(80)套设于所述内导体单元(30)上且与所述内导体单元(30)紧配合。

6.根据权利要求5所述的微波加热组件,其特征在于,所述定向导气结构(80)随所述辐射部(32)转动而转动设置。

7.根据权利要求1所述的微...

【专利技术属性】
技术研发人员:马晓锋刘艺昭杨柳青周瑜亮梁峰
申请(专利权)人:思摩尔国际控股有限公司
类型:发明
国别省市:

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