【技术实现步骤摘要】
本技术涉及人工晶体炉,尤其涉及一种用于晶体炉的阀门清理装置。
技术介绍
1、以多/单晶硅为例,多/单晶硅在整个生产过程中,受坩埚容量的限制,当坩埚内的原料拉制完毕后,必须停炉(逐渐降低加热器的加热功率,当炉内的温度降低到室温后,打开炉室),取出拉制好的晶棒,然后往坩埚内重新放入原料,原料放入后,启动电源,对坩埚重新加热,当坩埚内的原料熔化后开始新一轮晶棒的拉制,大大降低了生产的效率,本申请人为了进一步提高晶体炉的生产效率,提出了一种用于人工晶体炉的加料装置(申请号为202322659033.4),该申请通过在立柱上设置升降机构和旋转机构,并通过升降机构和旋转机构来驱动加料筒的升降和旋转,可以实现在不停炉的状态下往坩埚内添加原料,有效的提高了生产效率等。
2、上述专利申请在实际应用中发现,在加料过程中,碎料通过石英托与石英筒之间的间隙流入坩埚内部,由于碎料颗粒度较小,且处于热场内部,部分料粉尘会上扬从上面掉落在阀门的密封环处,而密封环处为旋板阀密封,粉尘的存在在一定程度上会影响旋板阀的密封性能,从而造成设备的故障率提高等。
...【技术保护点】
1.一种用于晶体炉的阀门清理装置,包括加料机构(1)、阀门主体(3)和气体分流环(8),其特征是:在所述加料机构(1)的下端头或阀门主体(3)的上端头设有气体分流环(8),所述气体分流环(8)的中部设有进气腔(7),所述进气腔(7)的下面间隔设有复数个吹气口,每个吹气口的出气端分别对应阀门主体(3)上的阀门密封环(9),进气腔(7)连通外部气源。
2.根据权利要求1所述的用于晶体炉的阀门清理装置,其特征是:所述每个吹气口的出气端分别设有吹气嘴(11)。
3.根据权利要求1所述的用于晶体炉的阀门清理装置,其特征是:所述每个吹气口的出气端分别设有吹
...【技术特征摘要】
1.一种用于晶体炉的阀门清理装置,包括加料机构(1)、阀门主体(3)和气体分流环(8),其特征是:在所述加料机构(1)的下端头或阀门主体(3)的上端头设有气体分流环(8),所述气体分流环(8)的中部设有进气腔(7),所述进气腔(7)的下面间隔设有复数个吹气口,每个吹气口的出气端分别对应阀门主体(3)上的阀门密封环(9),进气腔(7)连通外部气源。
2.根据权利要求1所述的用于晶体炉的阀门清理装置,其特征是:所述每个吹气口的出气端分别设有吹气嘴(11)。
3.根据权利要求1所述的用于晶体炉的阀门清理装置,其特征是:所述每个吹气口的出气端分别设有吹气管(10)。
4.根据权利要求1或2任一权利要求所述的用于晶体炉的阀门清理装置,其特征是:所述每个吹气口的出气端与吹气嘴(11)之间分别设有吹气管(10)。
5.根据权利要求1所述的用于晶体炉的阀门清理装置,其特征是:所述气体分流环(8)设置在加料机构(1)的下端头时,气体分流环(8)的上端面连接加料机构(1)上加料机构下法兰(2)的下面,气体分流环(8)的第一结构为气体分流环(8)为环形结构,在气体分流环(8)的上面设有向下凹陷的环形槽,在环形槽的开口端设有盖板使环形槽形成一个密闭的腔体,所述密闭的腔体为进气腔(7),在进气腔(7)的下底面间隔设有复数个吹气口,在进气腔(7)的侧壁上设有贯通至加料机构下法兰(2)外缘面的进气孔,所述进气孔的外端头连接进气口(5),所述进气口(5)连接气源。
6.根据权利要求1所述的用于晶体炉的阀门清...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘朝轩,范飞,邵玮,蔺红辉,王兴龙,
申请(专利权)人:洛阳长缨新能源科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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