一种用于晶体炉的副炉室定位装置制造方法及图纸

技术编号:43166039 阅读:16 留言:0更新日期:2024-11-01 19:57
一种用于晶体炉的副炉室定位装置,涉及人工晶体炉技术领域,本技术通过在副炉室下法兰(9)的上面设置可以旋转的锁紧环,通过锁紧环及副炉室下法兰上的定位销穿孔(12)与定位销(11)配合,实现了在副炉室下降时快速将副炉室与主炉室或旋板阀(6)进行定位的目的,避免了人工定位的操作等,然后通过旋转锁紧环,使位于锁紧环上的定位销穿孔的右端孔滑入定位销中部的环形槽内,此时环形槽的上端面与锁紧环的上面接触起到锁紧副炉室与主炉室或旋板阀的目的,本技术具有定位效率高、使用安全的特点,适合大范围的推广和应用。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及人工晶体炉,尤其涉及一种用于晶体炉的副炉室定位装置


技术介绍

1、以单晶炉为例,单晶炉是多晶硅转化为单晶硅工艺过程中的必备设备,单晶硅作为现代信息社会的单晶材料之一,它不仅是发展计算机与集成电路的主要功能材料,也是光伏发电的主要功能材料。随着半导体、光电子、太阳能等行业的快速发展,对于单晶炉的需求也越来越大。

2、现有单晶炉在使用时,当炉料拉制完成后,需要将单晶炉的副炉室向上升起使副炉室与主炉室分离,当副炉室上升到预定高度后旋转副炉室,副炉室旋转到预定位置后操作者将位于副炉室内的晶棒取出,并对副炉室的内壁进行清理(主要清理粘附在副炉室内壁上的挥发物),然后在主炉室内重新放入原料,将副炉室旋转至主炉室的上方,随后下降副炉室,当副炉室与主炉室接触后需要通过人工将副炉室与主炉室上的连接螺栓孔对齐,由于副炉室的重量较大,在人工调整时费时费力,有时还会发生夹伤操作者手指的事故等。

3、那么,如何提供一种用于晶体炉的副炉室定位装置就成了本领域技术人员的长期技术诉求。


技术实现思路>

1、本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于晶体炉的副炉室定位装置,包括右半锁紧环(2)、右半锁紧环限位销(3)、旋转手柄(5)、左半锁紧环(10)和定位销(11),其特征是:所述右半锁紧环(2)和左半锁紧环(10)组合后形成锁紧环,在锁紧环上设有至少一个旋转手柄(5),在锁紧环上间隔设有至少两个限位孔(13),所述锁紧环设置在副炉室(1)的副炉室下法兰(9)的上面,且锁紧环在副炉室下法兰(9)上面做旋转运动,设置在锁紧环上的限位孔(13)分别套接在位于副炉室下法兰(9)上面的锁紧环限位销(3)上,通过限位孔(13)与锁紧环限位销(3)的配合限制锁紧环的旋转范围值,在锁紧环的上面设有复数个贯通至副炉室下法兰(9)下面的...

【技术特征摘要】

1.一种用于晶体炉的副炉室定位装置,包括右半锁紧环(2)、右半锁紧环限位销(3)、旋转手柄(5)、左半锁紧环(10)和定位销(11),其特征是:所述右半锁紧环(2)和左半锁紧环(10)组合后形成锁紧环,在锁紧环上设有至少一个旋转手柄(5),在锁紧环上间隔设有至少两个限位孔(13),所述锁紧环设置在副炉室(1)的副炉室下法兰(9)的上面,且锁紧环在副炉室下法兰(9)上面做旋转运动,设置在锁紧环上的限位孔(13)分别套接在位于副炉室下法兰(9)上面的锁紧环限位销(3)上,通过限位孔(13)与锁紧环限位销(3)的配合限制锁紧环的旋转范围值,在锁紧环的上面设有复数个贯通至副炉室下法兰(9)下面的定位销穿孔(12),在主炉室的上法兰或旋板阀(6)的上面设有复数个定位销(11),每个定位销(11)分别插接在定位销穿孔(12)内。

2.根据权利要求1所述的用于晶体炉的副炉室定位装置,其特征是:所述右半锁紧环(2)和左半锁紧环(10)通过两个旋转手柄(5)固定连接。

3.根据权利要求1所述的用于晶体炉的副炉室定位装置,其特征是:所述定位销(11)的下端头固定设置在主炉室的上法兰或旋板阀(6)的上面,在定位销(11)的上端头设有上端小下端大的锥形面,在定位销(11)的中部设有环形槽。

4.根据权利要求1所述的用于晶体炉的副炉室定位装置,其特征是:所述定位销穿孔(12)为左端直径大右端直径小的球拍型长孔...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘朝轩邵玮王兴龙王献伟蔺红辉
申请(专利权)人:洛阳长缨新能源科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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