【技术实现步骤摘要】
本技术涉及镀膜,具体涉及一种镀膜辅助装置。
技术介绍
1、等离子体增强化学气相沉积工艺一般采用具有支架及串杆的镀膜辅助装置带动工件转动,并在工件随串杆的转动过程中在工件的表面形成薄膜。然而,支架与串杆常见的配合方式为串杆的底端插入支架的底端,串杆的顶端插设在支架顶端的限位孔内,因串杆的长度较长,串杆随支架的底端旋转时,串杆的顶端会出现偏心旋转,容易导致串杆上下端形成的薄膜的厚度不均匀,降低了镀膜的质量。
技术实现思路
1、鉴于以上内容,有必要提供一种镀膜辅助装置,以提高工件的镀膜均匀性。
2、本技术实施例提供一种镀膜辅助装置,包括:
3、支架,包括相对设置的顶座和底座,以及与所述顶座和所述底座分别连接的连接件,所述底座朝向所述顶座的一侧开设有定位槽;
4、辅助机构,包括装载座、转动件及限位件,所述装载座插设于所述顶座,所述转动件穿设于所述装载座并与所述装载座转动连接,所述转动件朝向所述底座的一侧开设有收纳槽,所述限位件连接所述转动件的一端并位于所述转动件
...【技术保护点】
1.一种镀膜辅助装置,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的镀膜辅助装置,其特征在于,所述装载座包括:
3.如权利要求2所述的镀膜辅助装置,其特征在于,
4.如权利要求3所述的镀膜辅助装置,其特征在于,
5.如权利要求1所述的镀膜辅助装置,其特征在于,所述转动件包括:
6.如权利要求1所述的镀膜辅助装置,其特征在于,
7.如权利要求2所述的镀膜辅助装置,其特征在于,
8.如权利要求7所述的镀膜辅助装置,其特征在于,
9.如权利要求1所述的镀膜辅助装置,其特征在于,所述限
<...【技术特征摘要】
1.一种镀膜辅助装置,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的镀膜辅助装置,其特征在于,所述装载座包括:
3.如权利要求2所述的镀膜辅助装置,其特征在于,
4.如权利要求3所述的镀膜辅助装置,其特征在于,
5.如权利要求1所述的镀膜辅助装置,其特征在于,所述转动件包括:
【专利技术属性】
技术研发人员:张宗培,李宝刚,苏昱铭,贺威,刘月平,严化,秦安立,
申请(专利权)人:富联裕展科技深圳有限公司,
类型:新型
国别省市:
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