【技术实现步骤摘要】
本技术涉及石墨舟干法刻蚀设备，具体为一种用于石墨舟干法刻蚀的真空腔体结构。
技术介绍
1、光伏行业pecvd(plasma enhanced chemical vapor deposition，即等离子体增强化学气相沉积)工艺中，石墨舟作为装载治具在经过多次镀膜工序后，表面会形成较厚的膜层，从而降低晶片的转换率。故石墨舟在使用到一定次数后需要清洗一次，去除表面膜层。
2、传统的石墨舟清洗方法为湿法清洗，利用氢氟酸浸泡清洗，再纯水清洗，后烘干，整个制程耗时长，污染大。近年又出现了使用等离子设备干法清洗的工艺，相较传统湿法清洗，其用工艺气体电离产生等离子对石墨舟表面膜层进行物理轰击和化学反应，制程耗时短，污染小。
3、但是部分等离子设备是由铝材制作，其等离子设备的腔体多数设置为方形，然而使用铝材方形腔体进行干法清洗时，腔壁会因刻蚀化合物堆积出现腐蚀产生粉末，污染石墨舟，因此我们需要提出一种用于石墨舟干法刻蚀的真空腔体结构来解决上述存在的问题。
技术实现思路
1、本技术的...
【技术保护点】
1.一种用于石墨舟干法刻蚀的真空腔体结构，包括不锈钢圆筒型的真空腔体(2)，其特征在于：所述真空腔体(2)的内部安装有不锈钢材质的支撑杆(4)，所述支撑杆(4)上放置有石墨舟(3)，所述真空腔体(2)的一端安装有腔门机构(10)，所述真空腔体(2)的内部安装有多组加热管(6)，多组所述加热管(6)均匀分布在石墨舟(3)的外周，所述真空腔体(2)的另一端安装有后端盖板(11)，且所述加热管(6)的一端安装有加热棒接头(12)，所述加热棒接头(12)安装在后端盖板(11)上，所述后端盖板(11)上还安装有两个与石墨舟(3)连接的电极管接头(5)和一个与真空腔体(2)连通的...
【技术特征摘要】
1.一种用于石墨舟干法刻蚀的真空腔体结构，包括不锈钢圆筒型的真空腔体(2)，其特征在于：所述真空腔体(2)的内部安装有不锈钢材质的支撑杆(4)，所述支撑杆(4)上放置有石墨舟(3)，所述真空腔体(2)的一端安装有腔门机构(10)，所述真空腔体(2)的内部安装有多组加热管(6)，多组所述加热管(6)均匀分布在石墨舟(3)的外周，所述真空腔体(2)的另一端安装有后端盖板(11)，且所述加热管(6)的一端安装有加热棒接头(12)，所述加热棒接头(12)安装在后端盖板(11)上，所述后端盖板(11)上还安装有两个与石墨舟(3)连接的电极管接头(5)和一个与真空腔体(2)连通的真空计(7)，所述真空腔体(2)的上端连通有多个用于产生提供等离子体的远程等离子电源(1)，所述真空腔体(2)的下端连通有抽真空管道(8)，所述抽真空管道(8)的一端连通有真空泵组(9)。
2.根据权利要求1所述的一种用于石墨舟干法刻蚀的真空腔体结构，其特征在于：所述支撑杆(4)设置有两组，两组所述支撑杆(4)平行固定在真空腔体(2)的内底部，所述石墨舟(3)放置在两组支撑杆(4)上，且所述石墨舟(3)的一端设置有供两个电极管接头(5)插接的电极孔。
3.根据权利要求2所述的一种用于石墨舟干法刻蚀的真空腔体结构，其特征在于：所述支撑杆(...
【专利技术属性】
技术研发人员：王罗发，陈吉庆，
申请(专利权)人：东莞市晟鼎精密仪器有限公司，
类型：新型
国别省市：
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