【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电解铁表面清洗,具体涉及一种超高纯电解铁的清洗方法。
技术介绍
1、在半导体行业中,锆钒铁(zrvfe)合金靶材主要用于吸气剂薄膜的制备材料,这种薄膜对于半导体芯片封装至关重要。zrvfe合金靶材通过磁控溅射技术在半导体器件的制造过程中形成薄膜,利用其高吸气性能吸收器件内部的气体杂质,从而提高半导体器件的性能和可靠性。
2、随着半导体制程的不断提高,对于zrvfe合金靶材的纯度有了更高的要求,也对高纯金属原材料有更高的要求。高纯电解铁表面的氧化层在zrvfe合金铸锭制备过程中可能会导致合金的氧含量增加,影响合金均匀性,另外氧化层可能会在熔体中形成固态或半固态的夹杂物,降低合金纯度,影响zrvfe合金靶材的质量。因此,高纯电解铁在作为合金基本元素熔炼前需要进行清洗以除去表面残留的杂质。
3、超高纯电解铁,即纯度≥5n(99.999%)的高纯铁,具有卓越的延展性、耐腐蚀性、热传导性、软磁性和高导电性等特性。这些特性使其在航空航天、能源、化工、海洋工程以及半导体产业中具有广泛的应用。超高纯电解铁在生产出槽
...【技术保护点】
1.一种超高纯电解铁的清洗方法,其特征在于,所述清洗方法包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于,步骤(1)所述超声波清洗采用的洗液包括异丙醇;
3.根据权利要求1或2所述的清洗方法,其特征在于,步骤(1)所述电解铁的纯度≥99.999%。
4.根据权利要求1-3任一项所述的清洗方法,其特征在于,步骤(1)所述超声波清洗的时间为3-4min;
5.根据权利要求1-4任一项所述的清洗方法,其特征在于,步骤(1)所述干燥的温度为40-50℃;
6.根据权利要求1-5任一项所述的清洗方法,其特征
...【技术特征摘要】
1.一种超高纯电解铁的清洗方法,其特征在于,所述清洗方法包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于,步骤(1)所述超声波清洗采用的洗液包括异丙醇;
3.根据权利要求1或2所述的清洗方法,其特征在于,步骤(1)所述电解铁的纯度≥99.999%。
4.根据权利要求1-3任一项所述的清洗方法,其特征在于,步骤(1)所述超声波清洗的时间为3-4min;
5.根据权利要求1-4任一项所述的清洗方法,其特征在于,步骤(1)所述干燥的温度为40-50℃;
6.根据权利要求1-5任一项所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:姚力军,郭廷宏,叶保国,章晨,
申请(专利权)人:宁波创致超纯新材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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