【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于光学测量的双状态抗扰动一体式夹持装置，本装置可以通过液压驱动模块实现对被测镜的移动。其中，所设计的保护帘模块能够对干涉测量光路进行全方位遮光，从而有效地将外部杂散光线与干涉测量光路相互隔绝，消除外部杂散光线对干涉测量光路的影响。同时，本专利技术可以适用于卧式和立式两种干涉测量状态。
技术介绍
1、高端元件的制造对元件表面加工精度有极为严苛的要求，因此，在完成制造流程后，对元件面型的精确测量就尤为关键，这一步骤直接决定了元件加工质量的量化评价的准确性。
2、移相干涉测量技术是光学干涉测量法中的一种高精度检测技术，这种非接触式的检测技术的测量精度可达纳米级，是当前检测领域内精度最高的测量方法之一。
3、干涉仪是一种高度精密的光学仪器，是实现移相干涉测量的必要设备，在科学研究和工程技术等众多领域中应用广泛。移相干涉测量技术的测量本质上是对采集得到的干涉强度图进行光强信号的分析，并以此来精确获取初始相位，进而实现对被测件的高精度面型重建。
4、移相干涉测量的过程大致可描述为：将被测镜安置...
【技术保护点】
1.本专利技术所设计的一种用于光学测量的双状态抗扰动一体式夹持装置的主要模块包括：连接架模块(1)、保护帘模块(2)、被测镜夹具模块(3)、伸缩线控制模块(4)、液压驱动模块(5)；
2.根据权利要求1所述的用于光学透镜的自动吸附与移动的装置中的保护帘模块(2)的特征为：一级伸长杆(203)中间镂空，一级伸长杆(203)一端通过过盈配合固连在连接架模块(1)中的伸缩管限位槽(107)中，一级伸长杆(203)侧面设置有一级伸长杆观察槽(207)，二级伸长杆(204)通过间隙配合插入一级伸长杆(203)，伸缩管(201)底部固定在连接架模块(1)中的伸缩管限位...
【技术特征摘要】
1.本发明所设计的一种用于光学测量的双状态抗扰动一体式夹持装置的主要模块包括：连接架模块(1)、保护帘模块(2)、被测镜夹具模块(3)、伸缩线控制模块(4)、液压驱动模块(5)；
2.根据权利要求1所述的用于光学透镜的自动吸附与移动的装置中的保护帘模块(2)的特征为：一级伸长杆(203)中间镂空，一级伸长杆(203)一端通过过盈配合固连在连接架模块(1)中的伸缩管限位槽(107)中，一级伸长杆(203)侧面设置有一级伸长杆观察槽(207)，二级伸长杆(204)通过间隙配合插入一级伸长杆(203)，伸缩管(201)底部固定在连接架模块(1)中的伸缩管限位槽(107)内，伸缩管(201)整体放置于一级伸长杆(203)上，伸缩管(201)末端内部嵌入电磁铁(202)，伸缩管(201)顶部两侧面均设置有收缩电机钢丝线紧固台(209)，拉伸电机钢丝线紧固台(206)与伸缩管(201)加工为一整体，拉伸电机钢丝线紧固台(206)设置在伸缩管(201)顶部，电磁旋钮开关固定台(205)与伸缩管(201)加工为一整体，电磁旋钮开关固定台(205)设置在伸缩管(201)顶部侧面，电磁旋钮开关(208)通过焊接固定在电磁旋钮开关固定台(205)上。
3.根据权利要求1所述的用于光学透镜的自动吸附与移动的装置中的被测镜夹具模块(3)的特征为：抗倒滑块(302)与被测镜夹具主体(301)加工为一整体，设置于被测镜夹具主体(301)底部，被测镜夹具主体滑块(318)放置于连接架模块(1)中的被测镜夹具导轨槽(108)中，被测镜固定支架(307)放置在被测镜夹具主体(301)内部，被测镜固定支架(307)侧边设置有滑柱滑孔(303)，滑柱固定孔(306)设置在被测镜夹具主体(301)内部，被测镜固定支架(307)上设置有四个被测镜夹持头(314)用于固定被测镜，长滑柱(304)与短滑柱(305)均与滑柱固定孔(306)通过过盈配合固连，长滑柱(304)与短滑柱(305)穿过滑柱滑孔(303)使被测镜固定支架(307)能够在被测镜夹具主体(301)上左右移动，卷帘杆固定台(310)设置在被测镜夹具主体(301)上，卷帘杆固定台(310)与被测镜夹具主体(301)加工为一整体，卷帘杆固定台(310...
【专利技术属性】
技术研发人员：常林，高杰华，缪佳炳，张清珠，李兵，魏玉兰，沈奇超，陈浩，
申请(专利权)人：湖州师范学院，
类型：发明
国别省市：
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