【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体，特别是涉及一种对准系统及方法。
技术介绍
1、在晶圆cvd(化学气相沉积)，退火等高温工艺中，由于晶圆边缘和周围的介质不连续，容易导致晶圆边缘和晶圆内部受热不一致，进而使晶圆发生翘曲，降低产品良率。因此行业内常用托盘承载晶圆，将托盘与晶圆一并放置在工艺腔中进行高温工艺。
2、若是由人工将晶圆装入托盘，然后将承载晶圆的托盘放入工艺腔，则难以保证洁净度和生产效率。因此引入了自动对准系统，但现有的自动对准系统通常采用预对准装置结合缓存区的结构，对准过程涉及多次晶圆和托盘的搬运，容易使得已经预对准的晶圆或托盘再次发生偏移，从而导致预对准精度较低的问题。
3、因此，如何提高预对准的精度，是本领域技术人员急需解决的问题。
技术实现思路
1、基于上述问题，本申请提供了一种对准系统及方法，通过两个预对准装置分别对晶圆和托盘进行预对准，减少了搬运次数，提高了预对准精度。
2、第一方面，本申请实施例提供了一种对准系统，包括：设备前端模块和制程模块；
...【技术保护点】
1.一种对准系统，其特征在于，包括：设备前端模块和制程模块；
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一预对准装置包括：第一线性传感器、第一升降组件以及第一旋转平台；
3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述第一线性光有特定长度，被固定在所述第一旋转平台上的所述晶圆部分遮挡，且所述第一线性光与所述晶圆和所述第一接收端均垂直。
4.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述第一升降组件包括至少三个第一升降柱，且将各个所述第一升降柱作为顶点依次连接呈多边形。
5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，全部所述第...
【技术特征摘要】
1.一种对准系统，其特征在于，包括：设备前端模块和制程模块；
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一预对准装置包括：第一线性传感器、第一升降组件以及第一旋转平台；
3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述第一线性光有特定长度，被固定在所述第一旋转平台上的所述晶圆部分遮挡，且所述第一线性光与所述晶圆和所述第一接收端均垂直。
4.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述第一升降组件包括至少三个第一升降柱，且将各个所述第一升降柱作为顶点依次连接呈多边形。
5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，全部所述第一升降柱与同一个移动控制组件连接；
6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第二预对准装置包括：第二线性传感器、第二升降组件以及第二旋转平台；
7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，所述第二线性光有特定长度，被固定在所述第二旋转平台上的所述托盘部分遮挡，且所述第二线性光与所述托盘和所述第二接收端均垂直。
8.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，所述第二升降组件包括至少三个第二升降柱，且将各个所述第二升降柱作为顶点依次连接呈多边形。
【专利技术属性】
技术研发人员：陈鲁，余涛，梁家勇，孙俊阳，袁明波，郁健，
申请(专利权)人：深圳中科飞测科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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