提取最小重复单元方法、OPC验证方法及装置制造方法及图纸

一种提取最小重复单元方法、OPC验证方法及装置，其中OPC验证方法包括：获取掩膜版图形，所述掩膜版图形中包括具有重复单元阵列的IP图形；提取所述掩模版图形中的最小重复阵列，所述最小重复阵列包括所有类型的IP图形，且每个类型的IP图形至少有一个；将所述最小重复阵列中所有类型的IP图形与数据库中的IP图形进行一一对应匹配，以获取比对结果；根据比对结果，确认OPC验证完成。通过将掩膜版图形中的最小重复阵列提取出来，且由于最小重复阵列包括掩膜版图形中所有类型的IP图形，使得后续针对最小重复阵列进行OPC验证，同时能够实现对整个掩膜版图形的OPC验证，能够有效减少OPC验证时间，提高OPC验证效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造领域，具体涉及一种提取最小重复单元方法、opc验证方法及装置。

技术介绍

1、在半导体制造的掩模版出版过程中，一般需要采用到opc技术对掩模版图形进行修正，使用opc修正后的掩模版进行成像后能使形成于半导体衬底上的目标图形达到目标要求，能消除目标图形中的由于光学临近效应造成的失真或变形。

2、opc修正后的掩模版在进行出版前还需进行opc验证，用以模拟opc修正后的掩模板是否正确。在现有的opc验证中，验证结果一般基于设计单元的名称分类。随着芯片规模的增加，不同单元中的重复结构增多，同一单元中，不同位置的重复结构也增多。这个造成相似的验证结果多次出现。十几种结构会在验证报告中重复出现上千次，造成问题排查的困难性。

3、目前，opc验证的方法存在重复验证，增加了opc验证的时间、验证资源，以及降低了验证效率。

技术实现思路

1、本专利技术解决的技术问题是如何抽取有掩膜版图形中的最小重复单元，同时提高验证效率。

2、为解决上述技术问题，本专利技术实施例提本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种提取最小重复单元方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的提取最小重复单元方法，其特征在于，提取所述掩膜版图形中的最小重复阵列的步骤包括：对所述掩膜版图形中的所有IP图形进行扫描，将所述掩膜版图形中同一类IP图形提取出来，得到若干类IP图形；合并所述若干类IP图形，得到所述最小重复阵列。

3.如权利要求2所述的提取最小重复单元方法，其特征在于，对所述掩膜版图形中的所有IP图形进行扫描，将所述掩膜版图形中同一类IP图形提取出来，得到若干类IP图形的步骤包括：

4.如权利要求3所述的提取最小重复单元方法，其特征在于，所述扫描数据为所述IP图形...

【技术特征摘要】

1.一种提取最小重复单元方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的提取最小重复单元方法，其特征在于，提取所述掩膜版图形中的最小重复阵列的步骤包括：对所述掩膜版图形中的所有ip图形进行扫描，将所述掩膜版图形中同一类ip图形提取出来，得到若干类ip图形；合并所述若干类ip图形，得到所述最小重复阵列。

3.如权利要求2所述的提取最小重复单元方法，其特征在于，对所述掩膜版图形中的所有ip图形进行扫描，将所述掩膜版图形中同一类ip图形提取出来，得到若干类ip图形的步骤包括：

4.如权利要求3所述的提取最小重复单元方法，其特征在于，所述扫描数据为所述ip图形的坐标信息、所述ip图形的图形形状、以及所述ip图形的图形尺寸。

5.如权利要求4所述的提取最小重复单元方法，其特征在于，根据扫描数据，将所述掩膜版图形中同一类ip图形提取出来，得到若干类ip图形的步骤包括：

6.如权利要求5所述的提取最小重复单元方法，其特征在于，合并所述若干类ip图形，得到所述最小重复阵列的步骤包括：

7.如权利要求5所述的提取最小重复单元方法，其特征在于，所述最小重复阵列包括：至少一个所述第一类ip图形、至少一个所述第二类ip图形、至少一个所述第三类ip图形以及至少一个所述第四类ip图形。

8.一种opc验证方法，其特征在于，包括：

9.如权利要求8所述的opc验证方法，其特征在于，提取所述掩膜版图形中的最小重复阵列的步骤包括：

10.如权利要求9所述的opc验证方法，其特征在于，对所述掩膜版图形中的所有ip图形进行扫描，将所述掩膜版图形中同一类ip图形提取出来，得到若干类ip图形的步骤包括：

11.如权利要求10所述的opc验证方法，其特征在于，所述扫描数据为所述ip图形的坐标信息、所述ip图形的图形形状、以及所述ip图形的图形尺寸。

12.如权利要求11所述的opc验证...

【专利技术属性】
技术研发人员：张瑛，金晓亮，
申请(专利权)人：上海华虹宏力半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：