【技术实现步骤摘要】
本技术涉及蚀刻设备，尤其涉及具有蚀刻液过滤功能的蚀刻装置。
技术介绍
1、蚀刻装置是一种用于在材料表面制造微小凹坑或纹理的工具或设备，蚀刻是一种化学或物理过程，通过使用酸、碱、溶液或高能粒子来改变材料表面的形状或质地，蚀刻装置通常用于制造微芯片、集成电路、光学元件、纹身、金属标牌等产品，通过控制蚀刻过程中的时间、温度、压力等参数，可以使得材料表面产生预定的图案或纹理，以满足特定应用的需求，但是在使用蚀刻装置时，一般通过将蚀刻液喷洒在物料表面，对物料进行蚀刻作业，但蚀刻液中可能会存在一些杂质、残留物或附着物跟随蚀刻液喷淋在物料上影响蚀刻效果。
技术实现思路
1、为了克服在使用蚀刻装置时，一般通过将蚀刻液喷洒在物料表面，对物料进行蚀刻作业，但蚀刻液中可能会存在一些杂质、残留物或附着物跟随蚀刻液喷淋在物料上影响蚀刻效果的问题。
2、本技术的技术方案为：具有蚀刻液过滤功能的蚀刻装置，包括有蚀刻装置主体、支撑组件、漏液组件、放置组件、储液组件、移动组件和喷淋组件，蚀刻装置主体的底面设置有...
【技术保护点】
1.具有蚀刻液过滤功能的蚀刻装置，包括有蚀刻装置主体(1)；其特征在于：还包括有支撑组件(2)、漏液组件(3)、放置组件(4)、储液组件(5)、移动组件(6)和喷淋组件(7)，蚀刻装置主体(1)的底面设置有支撑组件(2)，蚀刻装置主体(1)的内部设置有漏液组件(3)，蚀刻装置主体(1)的内侧设置有放置组件(4)，蚀刻装置主体(1)的上方设置有储液组件(5)，储液组件(5)的底面设置有移动组件(6)，移动组件(6)的底端设置有喷淋组件(7)。
2.根据权利要求1所述的具有蚀刻液过滤功能的蚀刻装置，其特征在于：支撑组件(2)包括支撑杆(201)和支撑板(202...
【技术特征摘要】
1.具有蚀刻液过滤功能的蚀刻装置，包括有蚀刻装置主体(1)；其特征在于：还包括有支撑组件(2)、漏液组件(3)、放置组件(4)、储液组件(5)、移动组件(6)和喷淋组件(7)，蚀刻装置主体(1)的底面设置有支撑组件(2)，蚀刻装置主体(1)的内部设置有漏液组件(3)，蚀刻装置主体(1)的内侧设置有放置组件(4)，蚀刻装置主体(1)的上方设置有储液组件(5)，储液组件(5)的底面设置有移动组件(6)，移动组件(6)的底端设置有喷淋组件(7)。
2.根据权利要求1所述的具有蚀刻液过滤功能的蚀刻装置，其特征在于：支撑组件(2)包括支撑杆(201)和支撑板(202)，蚀刻装置主体(1)的底面设置有支撑杆(201)，支撑杆(201)设置有多组，支撑杆(201)的底端设置有支撑板(202)。
3.根据权利要求1所述的具有蚀刻液过滤功能的蚀刻装置，其特征在于：漏液组件(3)包括渗液槽(301)和排水口(302)，蚀刻装置主体(1)的内部开设有渗液槽(301)，渗液槽(301)开设有多组，蚀刻装置主体(1)的底面设置有排水口(302)。
4.根据权利要求1所述的具有蚀刻液过滤功能的蚀刻装置，其特征在于：放置组件(4)包括支撑台(401)、放置板(402)和漏液孔(403)，蚀刻装置主体(1)的内部设置有支撑台(401)，支撑台(401)设置有两组，支撑台(401)的顶端设置有放置板(402)，放置板(402)的表面开设有漏液孔(403)。
5.根据权利要求1所述的具有蚀刻液过滤功能的蚀刻装置，其特征在于：储液组件(5)包括安装支架(...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋英，邹杰，
申请(专利权)人：东莞市明鑫精密智造有限公司，
类型：新型
国别省市：
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