工业尘埃清洗方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种工业尘埃清洗方法，该方法包括：利用高压气体形成的涡流吹扫工件表面，利用真空口将涡流吹扫起来的尘埃抽走。另外，本发明专利技术还提供一种工业尘埃清洗装置，该装置包括：涡流产生装置，具有至少一涡流出口；罩，设在涡流产生装置的外围，以形成环绕涡流产生装置的真空口；以及抽真空装置，与真空口相连。本发明专利技术能替代以往的利用水洗、毛刷清洗等方法，节约资源和空间、降低成本，清洗的洁净度较好，二次污染的可能性极小。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及等离子显示器领域，具体而言，涉及一种工业尘埃清洗方法及装置。
技术介绍
液晶基板、等离子基板、薄膜及版面进行油漆等生产过程中对尘埃的要求是非常 严格的，现有的工业尘埃清洗方法采用水洗或毛刷进行清洗，这样一是浪费资源和空间、增 大成本，二是洁净度不能保证，二次污染的可能性极大。 因此，有必要对现有的清洗方法进行改进。
技术实现思路
本专利技术目的在于提供一种利用气体进行的工业尘埃清洗方法及装置，以替代水洗 或毛刷进行清洁。 为此，本专利技术提供的利用气体进行工业尘埃清洗的方法包括利用高压气体形成 的涡流吹扫工件表面，利用真空口将涡流吹扫起来的尘埃抽走。 其中，上述涡流自至少一涡流出口吹出，上述真空口环绕至少一涡流出口 。 其中，上述涡流自一槽中吹出，上述真空口在上述中心槽的两侧平行延伸。 其中，使上述工件在上述涡流下方水平移动。 其中，使用于吹扫的涡流沿工件表面移动。 其中，上述工件为待清洗的等离子或液晶基板、其它薄膜或薄板表面的除尘清洗等。 其中，上述涡流由高压气体进入一圆形腔体中形成。 另外，本专利技术还提供一种利用气体进行工业尘埃清洗的装置，包括涡流产生装本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种工业尘埃清洗方法，其特征在于，包括：利用高压气体形成的涡流吹扫工件表面，利用真空口将所述涡流吹扫起来的尘埃抽走。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：柴立军，吕娜，
申请(专利权)人：四川虹欧显示器件有限公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]