含DNQ的双感光光刻胶材料及其制备方法与应用技术

本发明专利技术公开了一种含DNQ的双感光功能性光刻胶材料及其制备方法与应用，属于光刻材料技术领域，其制备方法以磺酰氯、乙烯基乙醚为改性材料，并以二碳酸二叔丁酯作为化学放大剂，通过自由基溶液聚合对树脂进行修饰改性。本发明专利技术还公开了上述制备方法制备得到的含DNQ的双感光功能性光刻胶材料及其在光刻胶体系中的应用。本发明专利技术的含DNQ的双感光光刻胶材料显示出优良分辨率，具有良好的耐酸性和涂布均匀性，在保持单体敏化剂性能特性的同时，还提高了抗蚀剂的溶解特性和热稳定性，在G线和I线领域内产品产业化生产方面具备优异的光化学性能，可广泛用于电路封装、印刷电路和集成电路的制造以及半导体分立器件的微细加工等过程。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光刻材料，尤其涉及一种含dnq的双感光光刻胶材料及其制备方法与应用。

技术介绍

1、光刻胶材料是集成电路制造的关键基础材料和光刻技术中涉及到的最关键的功能性化学材料，可广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及半导体分立器件的微细加工等过程。随着集成电路技术节点(technology node)的推进，光刻胶不同应用制程对应的原料树脂的设计具有关键性作用。其中聚合物树脂是光刻胶材料中的主要组成成分。树脂原料在一定程度上决定了光刻胶的性能特点，因此光刻胶发展中原料树脂的设计一直是不可缺少的重点研究课题。目前市场应用需求中的树脂原料仍以酚醛树脂和重氮萘醌(dnq)磺酸盐的传统i线抗蚀剂为主，其在集成电路制造业应用中占据巨大的市场份额，因此对光刻胶用dnq系列树脂的性能提出较高的要求。

2、酚醛树脂-重氮萘醌紫外正性光致抗蚀剂是g-line和i-line中应用最广泛、发展相对成熟的体系，商品化的正性厚膜光刻胶大都属于重氮萘醌正性光刻胶。这一类光刻胶的特点是用稀释的碱性显影液显影时不存在胶膜溶胀问题，成像膜在浓碱液中易于脱落，所包含的pac是一本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种含DNQ的双感光功能性光刻胶材料的制备方法，其特征在于，以磺酰氯、乙烯基乙醚为改性材料，并以二碳酸二叔丁酯作为化学放大剂，通过自由基溶液聚合对树脂进行修饰改性。

2.根据权利要求1所述的一种含DNQ的双感光功能性光刻胶材料的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

3.根据权利要求2所述的一种含DNQ的双感光功能性光刻胶材料的制备方法，其特征在于，所述树脂/磺酰氯反应液为将磺酰氯和树脂溶于有机溶剂中混合反应得到。

4.根据权利要求3所述的一种含DNQ的双感光功能性光刻胶材料的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂与树脂的质量比为(2～5):1；...

【技术特征摘要】

1.一种含dnq的双感光功能性光刻胶材料的制备方法，其特征在于，以磺酰氯、乙烯基乙醚为改性材料，并以二碳酸二叔丁酯作为化学放大剂，通过自由基溶液聚合对树脂进行修饰改性。

2.根据权利要求1所述的一种含dnq的双感光功能性光刻胶材料的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

3.根据权利要求2所述的一种含dnq的双感光功能性光刻胶材料的制备方法，其特征在于，所述树脂/磺酰氯反应液为将磺酰氯和树脂溶于有机溶剂中混合反应得到。

4.根据权利要求3所述的一种含dnq的双感光功能性光刻胶材料的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂与树脂的质量比为(2～5):1；

5.根据权利要求2所述的一种含dnq的双感光功能性光刻胶材料的制备方法，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘俊俊，杨翠，
申请(专利权)人：倍晶新材料山东有限公司，
类型：发明
国别省市：