一种真空灭弧室检测装置及方法制造方法及图纸

技术编号:43810562 阅读:31 留言:0更新日期:2024-12-27 13:26
本发明专利技术属于真空灭弧室技术领域,公开了一种真空灭弧室检测装置及方法,该装置包括真空灭弧室、检测器、支撑架和运输车;所述真空灭弧室设置在支撑架内,检测器设置在支撑架上端,所述真空灭弧室与支撑架固定连接,检测器与支撑架可拆卸连接,支撑架固定安装在运输车内,支撑架包括支撑板、支架、支脚和支撑柱,运输车包括运输架、底座和万向轮,真空灭弧室安装在支撑架上,支撑架固定安装在运输车上,检测器安装在支撑架上且与真空灭弧室卡接使用检测器直接对真空灭弧室进行真空度检测,取消了大重量真空灭弧室测试过程中安装、拆卸、搬运夹具的操作,解决现有技术中真空灭弧室反复搬运存在磕碰风险,增加返修以及检测装置通用性差的技术问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于真空灭弧室,涉及一种真空灭弧室检测装置及方法


技术介绍

1、真空灭弧室是真空断路器的核心部件,以真空为绝缘和熄弧介质。为了实现电流的分断和灭弧,真空灭弧室内的压强一般不高于0.01pa,因此,真空度是决定真空灭弧室开断性能的主要因素之一,真空度的降低将直接影响真空断路器的开断能力,严重时将导致其开断完全失效,在实际应用领域迫切需要测量和记录真空灭弧室的真空度。

2、现有技术中通常采用磁控放电原理对真空灭弧室的真空度进行测量,即将真空灭弧室的动静触头拉开一定的距离,然后将真空灭弧室置于电磁线圈内,并向电磁线圈通以大电流,同时向动静触头上施加电场脉冲高压;在真空灭弧室内产生与高压同步的脉冲磁场,使阴极发射出电子,电子在脉冲磁场的作用下做螺旋型运动而使运动路程大大增加,与残余气体分子发生碰撞的几率增加,电子和气体分子碰撞电离产生的离子在电场作用下形成离子电流;离子电流和真空灭弧室内的气体压力大致呈线性关系,因此,根据离子电流的不同大小,便可获取灭弧室内部的真空度状况。

3、对于新产品重量超过50kg的真空灭弧室,需要操作人本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种真空灭弧室检测装置,其特征在于:

2.根据权利要求1所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:

3.根据权利要求2所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:

4.根据权利要求2所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:

5.根据权利要求4所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:

6.根据权利要求5所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:

7.根据权利要求1所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:

8.根据权利要求4所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:

9.根据权利要求7所述的真空灭弧室检测装置,其特征...

【技术特征摘要】

1.一种真空灭弧室检测装置,其特征在于:

2.根据权利要求1所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:

3.根据权利要求2所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:

4.根据权利要求2所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:

5.根据权利要求4所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:

6.根据权利要求5所述的真...

【专利技术属性】
技术研发人员:苏永宁张丕冯卫刚万晓鹏
申请(专利权)人:陕西宝光真空电器股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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