【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于真空灭弧室,涉及一种真空灭弧室检测装置及方法。
技术介绍
1、真空灭弧室是真空断路器的核心部件,以真空为绝缘和熄弧介质。为了实现电流的分断和灭弧,真空灭弧室内的压强一般不高于0.01pa,因此,真空度是决定真空灭弧室开断性能的主要因素之一,真空度的降低将直接影响真空断路器的开断能力,严重时将导致其开断完全失效,在实际应用领域迫切需要测量和记录真空灭弧室的真空度。
2、现有技术中通常采用磁控放电原理对真空灭弧室的真空度进行测量,即将真空灭弧室的动静触头拉开一定的距离,然后将真空灭弧室置于电磁线圈内,并向电磁线圈通以大电流,同时向动静触头上施加电场脉冲高压;在真空灭弧室内产生与高压同步的脉冲磁场,使阴极发射出电子,电子在脉冲磁场的作用下做螺旋型运动而使运动路程大大增加,与残余气体分子发生碰撞的几率增加,电子和气体分子碰撞电离产生的离子在电场作用下形成离子电流;离子电流和真空灭弧室内的气体压力大致呈线性关系,因此,根据离子电流的不同大小,便可获取灭弧室内部的真空度状况。
3、对于新产品重量超过50kg的真
...【技术保护点】
1.一种真空灭弧室检测装置,其特征在于:
2.根据权利要求1所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:
3.根据权利要求2所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:
4.根据权利要求2所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:
5.根据权利要求4所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:
6.根据权利要求5所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:
7.根据权利要求1所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:
8.根据权利要求4所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:
9.根据权利要求7所述的真空灭
...【技术特征摘要】
1.一种真空灭弧室检测装置,其特征在于:
2.根据权利要求1所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:
3.根据权利要求2所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:
4.根据权利要求2所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:
5.根据权利要求4所述的真空灭弧室检测装置,其特征在于:
6.根据权利要求5所述的真...
【专利技术属性】
技术研发人员:苏永宁,张丕,冯卫刚,万晓鹏,
申请(专利权)人:陕西宝光真空电器股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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