等离子体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够减少翅片构件的损伤的等离子体处理装置。等离子体处理装置具备内侧电极、电极保持体、外侧电极、将内侧电极及电极保持体包围的绝缘构件、用于通过使供给到绝缘构件的内侧的处理气体回转从而形成绕内侧电极的回转流的翅片构件以及吹出等离子体化后的回转流的喷嘴。绝缘构件直接或间接地固定于外侧电极，翅片构件以从内侧电极分离的状态固定于电极保持体，并且与绝缘构件的内周面接触。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及等离子体处理装置。

技术介绍

1、例如，如日本实开平6-54471号公报所见的那样，能够使处理气体回转的等离子体喷枪是公知的。

技术实现思路

1、在日本实开平6-54471号公报所记载的等离子体处理装置中，翅片构件与电极以及喷嘴接触，因此存在由于来自电极以及喷嘴的热的影响而翅片构件损伤的担心。

2、本公开的目的在于提供能够减少翅片构件的损伤的等离子体处理装置。

3、按照本公开的一方面的等离子体处理装置具备：内侧电极，其受到电压的施加；电极保持体，其保持所述内侧电极；外侧电极，其形成为筒状，并将所述内侧电极及所述电极保持体包围；绝缘构件，其配置于所述内侧电极及所述电极保持体与所述外侧电极之间，并将所述内侧电极及所述电极保持体包围；翅片构件，其用于通过使供给到所述绝缘构件的内侧的处理气体回转从而形成绕所述内侧电极的回转流；以及喷嘴，其吹出等离子体化后的所述回转流，所述绝缘构件直接或间接地固定于所述外侧电极，所述翅片构件以从所述内侧电极分离的状态固定于所述电极保持体，并且与所述绝缘本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种等离子体处理装置，其中，

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，

4.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

5.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

【技术特征摘要】

1.一种等离子体处理装置，其中，

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

3.根据权利要求2所述的等离子体...

【专利技术属性】
技术研发人员：玉城怜士，纳富隼人，天立茂树，长谷川慎一，
申请(专利权)人：株式会社达谊恒，
类型：发明
国别省市：