一种刻蚀终点检测装置制造方法及图纸

本申请提供一种刻蚀终点检测装置，设置在反应腔室的第一侧壁外侧，第一侧壁设置贯通孔。该装置包括：沿第一侧壁依次向外侧设置的异形阀门、探测窗和聚光透镜。异形阀门内包括可开合的贯穿通道。反应腔室内的晶圆发射谱线依次通过贯通孔、贯穿通道和探测窗后全部射入聚光透镜。该装置还包括控制单元，控制单元电连接异形阀门，用于控制异形阀门开启或闭合，以开合贯穿通道。该装置实现探测窗与反应腔室的可控空间隔离，可于终点检测反应间隙闭合异形阀门更换探测窗，避免开腔更换，更换后快速复机，提高机台稳定性及利用率；还可在终点检测未进行时闭合异形阀门保护探测窗免受等离子体腐蚀，从而延长其使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及半导体制造，特别涉及一种刻蚀终点检测装置。

技术介绍

1、基于光谱仪的刻蚀终点检测是当前晶圆生产中普遍应用的一种刻蚀终点判定方法，其通过刻蚀腔室侧壁上的蓝宝石探测窗接收晶圆表面刻蚀反应过程中的光谱信息，经光纤传导到后端光谱分析系统，由发射光谱变化判断反应阶段从而判定刻蚀终点。在这种方法中，由于探测窗直接面向腔室内侧，受等离子体腐蚀及反应副产物沉积影响，探测窗的透光性会逐渐下降，导致终点检测的准确性、稳定性及灵敏性降低，需要对探测窗定期更换。目前对探测窗的更换需要开腔进行，这对设备稳定性及机台利用率产生了负面影响。

2、因此，需要有一种新的刻蚀终点检测装置，解决探测窗易受等离子体腐蚀及反应副产物沉积影响而导致透光性下降的问题。

技术实现思路

1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种刻蚀终点检测装置，用于解决现有技术中探测窗易受等离子体腐蚀及反应副产物沉积影响而导致透光性下降的问题。

2、本申请实施例提供一种刻蚀终点检测装置，设置在反应腔室的第一侧壁外侧，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种刻蚀终点检测装置，设置在反应腔室的第一侧壁外侧，所述第一侧壁设置贯通孔，其特征在于，所述终点检测装置包括：沿所述第一侧壁依次向外侧设置的异形阀门、探测窗和聚光透镜，所述异形阀门内包括可开合的贯穿通道，所述异形阀门和所述探测窗被配置为：所述反应腔室内的晶圆发射谱线依次通过所述贯通孔、所述贯穿通道和所述探测窗后全部射入所述聚光透镜；以及控制单元，所述控制单元电连接所述异形阀门，用于控制所述异形阀门开启或闭合，以开合所述贯穿通道。

2.根据权利要求1所述的刻蚀终点检测装置，其特征在于，所述贯穿通道的第一端和第二端分别位于相互平行的两个平面上，所述贯穿通道的第一端与所述反应腔...

【技术特征摘要】

1.一种刻蚀终点检测装置，设置在反应腔室的第一侧壁外侧，所述第一侧壁设置贯通孔，其特征在于，所述终点检测装置包括：沿所述第一侧壁依次向外侧设置的异形阀门、探测窗和聚光透镜，所述异形阀门内包括可开合的贯穿通道，所述异形阀门和所述探测窗被配置为：所述反应腔室内的晶圆发射谱线依次通过所述贯通孔、所述贯穿通道和所述探测窗后全部射入所述聚光透镜；以及控制单元，所述控制单元电连接所述异形阀门，用于控制所述异形阀门开启或闭合，以开合所述贯穿通道。

2.根据权利要求1所述的刻蚀终点检测装置，其特征在于，所述贯穿通道的第一端和第二端分别位于相互平行的两个平面上，所述贯穿通道的第一端与所述反应腔室的第一侧壁固定连接，所述贯穿通道的第二端与所述探测窗第一侧可拆卸地连接。

3.根据权利要求1所述的刻蚀终点检测装置，其特征在于，所述贯穿通道的内部轮廓大于等于所述晶圆发射谱线通过所述贯通孔后所形成光路通道的外部轮廓。

4.根据权利要求3所述的刻蚀终点检测装置，其特征在于，所述探测窗的尺寸大于等于所述光路通道投影至所述探测窗所在平面的外部轮廓。

5.根据权利要求3所述的刻蚀终点检测装置，其特征在于，所述聚光透镜固定连接在所述探测窗相对于所述贯穿通道的第二侧，所述聚光透镜的尺寸...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭子仲，李军竹，
申请(专利权)人：北方集成电路技术创新中心北京有限公司，
类型：新型
国别省市：