一种小片光伏电池的生产工艺以及一种用于硅片钝化膜沉积和丝网印刷的一体化生产系统技术方案

技术编号:43698032 阅读:33 留言:0更新日期:2024-12-18 21:13
本发明专利技术提供了一种小片光伏电池的生产工艺。本发明专利技术还提供了一种用于硅片钝化膜沉积和丝网印刷的一体化生产系统。本发明专利技术在丝网印刷前,先使用激光无损切割将完整硅片半成品切割成多片小片硅片,再同时使用一链式钝化膜沉积设备,安装在丝网印刷前形成集成设备,将切割后的小片硅片经过链式边缘钝化膜沉积设备进入到丝网印刷、烧结中形成小片电池;本发明专利技术特别采用链式原子层沉积装置(CALD),可与后续链式丝网印刷步骤实现无缝连接,利用烧结机台进行退火、激活钝化膜钝化效果,达到减少切割面少数载流子复合的目的,从而达到提升小片电池光电转换效率及封装而成的组件功率的目的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光伏电池制备,尤其涉及一种小片光伏电池的生产工艺以及一种用于硅片钝化膜沉积和丝网印刷的一体化生产系统。


技术介绍

1、现有多分片组件、拼片组件或叠瓦组件,普遍是在封装组件前将完整的电池切割为多片小片电池,切割后的小片电池切割面为裸硅表面,裸硅表面由于缺陷较多,表面电荷复合十分严重,影响小片电池的光电转换效率,进而影响封装而成的光伏组件的发电功率。参见图1,图1为现有技术中小片电池制作及封装成光伏组件的工艺流程示意简图。如现有技术中cn111430506a公开了在成品电池上进行切割并将小片电池叠在一起钝化切割面,但由于成品电池具有表面电极,叠在一起时电极高度影响叠片间的贴紧程度,造成钝化膜沉积在边缘的同时也沉积在电池正面或背面,造成绕镀,绕镀即在非待镀膜面上沉积钝化膜,由于钝化膜大多为绝缘膜,覆盖在电极表面时,会造成组件封装阶段串焊接接触不良,即虚焊现象,造成组件发电功率下降且组件可靠性极其不稳定。而为了激活钝化膜的钝化效果则需额外添置退火设备,且退火过程中高温以及接触空气容易造成电极的氧化,造成小片电池成本的上升和良率的下降。

2本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种小片光伏电池的生产工艺,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的生产工艺,其特征在于,所述完整硅片的边长尺寸为155~230mm;

3.根据权利要求1所述的生产工艺,其特征在于,所述完整硅片半成品的制备过程还包括:制绒、扩散、边缘及背面处理、正面和/或背面钝化。

4.根据权利要求1所述的生产工艺,其特征在于,单个所述小片硅片的所述切割面数量为一个或两个。

5.根据权利要求1所述的生产工艺,其特征在于,所述步骤3中,所述小片硅片放置方式包括单个或多个正背面堆叠放置。

6.根据权利要求5所述的生产工艺,其特征在于...

【技术特征摘要】

1.一种小片光伏电池的生产工艺,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的生产工艺,其特征在于,所述完整硅片的边长尺寸为155~230mm;

3.根据权利要求1所述的生产工艺,其特征在于,所述完整硅片半成品的制备过程还包括:制绒、扩散、边缘及背面处理、正面和/或背面钝化。

4.根据权利要求1所述的生产工艺,其特征在于,单个所述小片硅片的所述切割面数量为一个或两个。

5.根据权利要求1所述的生产工艺,其特征在于,所述步骤3中,所述小片硅片放置方式包括单个或多个正背面堆叠放置。

6.根据权利要求5所述的生产工艺,其特征在于,多个所述小片硅片通过载具实现堆叠放置。

7.根据权利要求1所述的生产工艺,其特征在于,所述链式原子层沉积具体为,采用链式原子层设备进行沉积,将所述小片硅片的非切割面位于保护性气体形成的气帘隔绝区中,而所述切割面则置于钝化膜反应源气相形成的钝化膜反应源沉积区中,进行所述钝化膜沉积;

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【专利技术属性】
技术研发人员:廖宝臣杨柳
申请(专利权)人:江苏微导纳米科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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