【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于电极材料及重金属废水处理,具体涉及一种ws2赝电容界面材料及其制备方法和应用。
技术介绍
1、随着工业的高速发展,工业制造企业激增,重金属工业废水排放问题日益凸显,严重污染水体资源,对公众健康构成直接威胁。铜、铅、锌、镉、汞、铬等是废水中最常见和毒性最大的重金属污染物,已被世界卫生组织列为公众关注的化学污染物,其能在水环境中稳定存在,不易自然降解。重金属污染物进入生态水系统中,通过食物链累积放大,对水生生物及人类将造成急性或慢性毒害作用,在最危险的情况下甚至会导致死亡。因此,高效去除废水中的重金属元素,对重金属行业可持续健康发展和环境保护具有重要意义。
2、近年来,针对各种重金属污染物的去除,国内外研究者已探索并优化了包括吸附法、化学沉淀法、离子交换法及膜分离技术在内的多种重金属离子去除方法。尽管上述方法展现了一定的重金属去除效能,其各自的局限性仍不容忽视。化学沉淀法通过形成不溶性沉淀物实现了重金属的去除,但该过程伴随产生的大量污泥易造成二次环境污染;离子交换法借助交换剂实现重金属的捕获,但交换剂的氧化敏感性限
...【技术保护点】
1.一种WS2赝电容界面材料的制备方法,其特征在于,包括如下制备步骤:
2.根据权利要求1所述的一种WS2赝电容界面材料的制备方法,其特征在于,所述钨酸钠、硫脲、盐酸羟胺的摩尔比为0.5~0.6:2:1。
3.根据权利要求1所述的一种WS2赝电容界面材料的制备方法,其特征在于,所述去离子水的加入量为钨酸钠、硫脲和盐酸羟胺总质量的5~10倍。
4.根据权利要求1所述的一种WS2赝电容界面材料的制备方法,其特征在于,所述表面活性剂为CTAB,CTAB的加入量为混合溶液质量的0.5%~2%。
5.根据权利要求1所述的一种WS2
...【技术特征摘要】
1.一种ws2赝电容界面材料的制备方法,其特征在于,包括如下制备步骤:
2.根据权利要求1所述的一种ws2赝电容界面材料的制备方法,其特征在于,所述钨酸钠、硫脲、盐酸羟胺的摩尔比为0.5~0.6:2:1。
3.根据权利要求1所述的一种ws2赝电容界面材料的制备方法,其特征在于,所述去离子水的加入量为钨酸钠、硫脲和盐酸羟胺总质量的5~10倍。
4.根据权利要求1所述的一种ws2赝电容界面材料的制备方法,其特征在于,所述表面活性剂为ctab,ctab的加入量为混合溶液质量的0.5%~2%。
5.根据权利要求1所述的一种ws2赝电容界面材料的制备方法,其特征在于,所述水热反应前先调节ph值为5~7。
6.根据权利要求1所述的一种ws2赝电容界面材料的制备方法,其特征在于,所述水热反应的时间为1...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘炜珍,胡莉萌,毛敏霖,谢祥塔,钟敏骅,陈绍坚,周睿,
申请(专利权)人:华南理工大学,
类型:发明
国别省市:
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