【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体设备领域,进一步地涉及一种基板承载装置及基板处理设备。
技术介绍
1、在芯片制造过程中不可避免地会引入一些杂质颗粒、有机物、金属离子和氧化物等等,这些都是影响芯片良率和可靠性的潜在风险。因此在芯片制造过程中,清洗是非常重要的一道工序。单片基板清洗机具有容易控制清洗质量、提高单片基板不同位置的清洗均匀度等优点,被越来越多地采用。
2、在单片基板清洗机工作过程中,基板承载装置上升至保护罩上方,通过机械手将待清洗的基板放置于基板承载装置并固定;待清洗基板随基板承载装置下降至保护罩内,再由喷嘴喷洒清洗液进行基板清洗;清洗完成后,基板承载装置升举基板至保护罩上方,再由机械手移走,更换其它待清洗基板。在上述过程中,需对基板进行夹持和升举两项基础操作。
3、现有技术中,基板的夹持方式包括离心力夹持和机械夹持等,基板的升举方式包括中央杆式升举等。离心力夹持具有结构简单、成本低的优点,但启动与停止时易发生滑片,且缺少升举机构;机械夹持具有夹持力均匀、不易发生滑片的优点,但结构复杂,增加升举机构难度较高;中央杆式
...【技术保护点】
1.一种基板承载装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的基板承载装置,其特征在于,
3.根据权利要求2所述的基板承载装置,其特征在于,
4.根据权利要求3所述的基板承载装置,其特征在于,
5.根据权利要求4所述的基板承载装置,其特征在于,
6.根据权利要求2所述的基板承载装置,其特征在于,
7.根据权利要求6所述的基板承载装置,其特征在于,
8.根据权利要求2所述的基板承载装置,其特征在于,
9.根据权利要求8所述的基板承载装置,其特征在于,
10.根
...【技术特征摘要】
1.一种基板承载装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的基板承载装置,其特征在于,
3.根据权利要求2所述的基板承载装置,其特征在于,
4.根据权利要求3所述的基板承载装置,其特征在于,
5.根据权利要求4所述的基板承载装置,其特征在于,
6.根据权利要求2所述的基板承载装置,其特征在于,
7.根据权利要求6所述的基板承载装置,其特征在于,
8.根据权利要求2所述的基板承载装置,其特征在于,
9.根据权利要求8所述的基板承载装置,其特征在于,
10.根据权利要求9所述的基板承载装置,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:韩阳,刘文博,黄天宇,何西登,樊昌浩,陈中强,
申请(专利权)人:盛美半导体设备上海股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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