【技术实现步骤摘要】
本技术涉及检测设备，具体涉及一种检测装置。
技术介绍
1、相关技术中，在硅片输送方向上沿竖直方向间隔设置光源、反射镜和相机以对硅片在输送方向上的前端面或后端面进行检测，在硅片由光源和反射镜之间通过时，光源的光线照射在前端面或后端面，然后反射至反射镜，并再次被反射至相机，从而判断前端面或后端面是否具有崩边缺陷。为了能够在硅片输送过程中完成对前端面和后端面的检测，光源、反射镜和相机沿输送方向设置两组，且两组在竖直方向上对称设置，换言之，其中一个相机在输送线下方，另一个相机在输送线上方，导致设备的结构紧凑度较低，占用空间较大，特别是占用的高度空间较大。
技术实现思路
1、本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本技术的实施例提出一种检测装置，该检测装置使检测工位具有较小的占用空间，特别是高度空间占用较小，结构紧凑度较高。
2、本技术实施例的检测装置包括：
3、安装架；
4、第一光源，所述第一光源设在所述安装架上，用于向待测物发射光线，所述...
【技术保护点】
1.一种检测装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述通道用于所述待测物沿第一方向通过，两个所述第一光源(2)沿所述第一方向间隔排布，且所述第一光源(2)沿第二方向延伸一段距离，与两个所述第一光源(2)一一对应设置的两个所述反射镜(3)沿所述第一方向间隔排布，且所述反射镜(3)沿第二方向延伸一段距离，所述第二方向正交于所述第一方向，且所述第二方向和所述第一方向均正交于竖直方向。
3.根据权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述第一光源(2)和所述反射镜(3)可分别相对于所述安装架(1)绕所述第二方向转动。p>
4.根据权...
【技术特征摘要】
1.一种检测装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述通道用于所述待测物沿第一方向通过，两个所述第一光源(2)沿所述第一方向间隔排布，且所述第一光源(2)沿第二方向延伸一段距离，与两个所述第一光源(2)一一对应设置的两个所述反射镜(3)沿所述第一方向间隔排布，且所述反射镜(3)沿第二方向延伸一段距离，所述第二方向正交于所述第一方向，且所述第二方向和所述第一方向均正交于竖直方向。
3.根据权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述第一光源(2)和所述反射镜(3)可分别相对于所述安装架(1)绕所述第二方向转动。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的检测装置，其特征在于，还包括第二光源(4)，所述第二光源(4)设在所述安装架(1)上，用于向待测物发射光线，所述反射镜(3)在所述反射镜(3)的延伸方向的至少一端设有所述第二光源(4)，且所述第二光源(4)与对应的所述反射镜(3)沿竖直方向间隔设置。
5.根据权利要求4所述的检测装置，其特征在于，所述安装架(1)包括遮光组件(11)，所述遮光组件(11)形成遮光空间，所述第一光源(2)、所述反射镜(3)和所述第二光源(4)的至少部分均位于所述遮光空间内，所述遮光组件(11)设有光线通孔(111)，所述光线通孔(111)用于所述反射...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱亮，谢龙辉，吴霏霏，张夫明，王俊，黄张楠，胥宗朋，李贞周，
申请(专利权)人：浙江求是半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。