一种静电区可调的静电吸盘制造技术

本技术公开了一种静电区可调的静电吸盘，该静电吸盘采用铝制机壳作为主体，并内置J‑R力生成组件。在机壳的顶部设有调节机构，该调节机构包括至少三个沿同轴环形阵列式排布的线性自由度。每个线性自由度在水平面上呈交错排列，当执行线性自由度时，会驱动一块静电块水平移动；本技术通过引入调节机构和线性模组，新技术实现了静电块的水平移动，使静电区的位置可调。这为系统提供了更大的灵活性，能够适应不同尺寸和形状的吸附物体。本技术采用线性模组的设计，包括旋转执行器和直线执行器的组合，使得系统具备微调功能。这使得在工艺过程中能够对吸附物体的位置进行精准微调，提高了吸附系统的精度和可控性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体制备，特别涉及一种静电区可调的静电吸盘。

技术介绍

1、半导体制备领域中，早期使用机械夹持技术来固定晶圆。这种方法导致表面的微小划痕或变形，因为机械夹持对晶圆的表面要求较高。随后，采用石蜡粘结法，通过在晶圆和支持基板之间应用石蜡来实现固定。然而，这种方法存在粘结剂残留和温度敏感性的问题。接着发展出真空吸盘技术，使用真空产生的吸力来吸附晶圆。这种方法解决了一些前述问题，但在某些情况下，可能无法提供足够的平坦度。

2、目前主流的解决方案是静电吸盘。它利用静电原理，通过在吸附表面产生电荷，形成静电场，从而产生强大的吸附力。静电吸盘不需要直接接触吸附物，因此减少了表面损伤的风险，并提供了更好的平坦度控制。

3、静电吸盘，又称静电卡盘（esc, e-chuck），是一种高科技夹具，利用静电吸附原理来牢固固定被吸附物体。其结构如说明书附图图8所示，这种夹具广泛应用于真空和等离子体环境，特别是在半导体生产制备领域。其主要作用是吸附超洁净薄片，如晶圆，同时保持吸附物的平坦度，抑制在工艺中的变形，并能够调节吸附物的温度。

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【技术保护点】

1.一种静电区可调的静电吸盘，包括铝制机壳（1）和安装于其内的J-R力生成组件，其特征在于：所述铝制机壳（1）内顶部设有调节机构（7）；

2.根据权利要求1所述的静电区可调的静电吸盘，其特征在于：所述J-R力生成组件包括设于所述铝制机壳（1）内底部从上至下的偏压电源件（4）、一第一电介质块（5）、电极片（6）和另一所述第一电介质块（5）；

3.根据权利要求2所述的静电区可调的静电吸盘，其特征在于：所述铝制机壳（1）内开设有用于氦气流通的氦气通路b（501），所述氦气通路b（501）与所述氦气通路a（3）连通，且所述氦气通路b（501）接触于所有所述第一电介质块（5...

【技术特征摘要】

1.一种静电区可调的静电吸盘，包括铝制机壳（1）和安装于其内的j-r力生成组件，其特征在于：所述铝制机壳（1）内顶部设有调节机构（7）；

2.根据权利要求1所述的静电区可调的静电吸盘，其特征在于：所述j-r力生成组件包括设于所述铝制机壳（1）内底部从上至下的偏压电源件（4）、一第一电介质块（5）、电极片（6）和另一所述第一电介质块（5）；

3.根据权利要求2所述的静电区可调的静电吸盘，其特征在于：所述铝制机壳（1）内开设有用于氦气流通的氦气通路b（501），所述氦气通路b（501）与所述氦气通路a（3）连通，且所述氦气通路b（501）接触于所有所述第一电介质块（5）、所述电极片（6）和所述调节机构（7）。

4.根据权利要求2所述的静电区可调的静电吸盘，其特征在于：所述铝制机壳（1）配合于所述电极片（6）处的内壁开设有用于走线的走线通路（401），所述走线通路（401）用于引导所述电极片（6）和所述偏压电源件（4）的导线。

5.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈庆生，赵相宰，季汉川，陈康，霍旭坤，李亚伦，陈斌，曹义旭，
申请(专利权)人：苏州盛拓半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：