用于确定粒子分布的方法技术

一种用于使用具有发射具有非均匀强度廓线(30)的激光光(16)的半导体激光器(14)的激光设备(12)来确定粒子流(10)中粒子分布的方法，所述方法的特征在于：‑24P8接收所述激光光(16)在粒子流(10)的粒子(18)处产生的光反射(20)，‑连接到激光设备(12)的评估单元(22)在粒子(18)穿透激光光(16)时就基于强度廓线(30)产生的信号强度值的频率分布评估由光反射(20)产生的反射信号，‑处理器单元基于信号强度值来确定各别粒子的粒子直径，‑基于激光设备的敏感度来执行所确定的粒子直径中的至少一些的直径校正，‑创建粒子直径的频率分布的直径列表，‑使用校正列表来执行直径列表的频率校正,‑将所校正的直径列表存储在存储介质上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

技术介绍

0、现有技术

1、本专利技术的背景是pm1、pm2.5和pm10值的检测，所述检测是基于低于1、2.5或10微米的粒子大小的以μg/m3为单位的粒子质量。

2、wo 2017017282 a1公开了一种用于从测得信号得出粒子大小的方法。描述一种粒子大小检测的激光传感器模块。所述激光传感器模块包括至少一个第一激光器、至少一个第一检测器、至少一个电驱动器以及至少一个评估装置。所述第一激光器适于响应于所述至少一个驱动器所提供的信号而发射第一激光光(laser light)。

3、为了准确地确定pm1、pm2.5和pm10值，需要较好地估计检测到的粒子大小。尽管较大的粒子通常导致较长的检测时间和/或较大的检测幅度，但大粒子通常还产生非常弱的信号。如果粒子穿过为检测而发射的激光束的边缘区，那么就是这种情况。然而，如果粒子穿透激光束的焦点，则可产生具有高光强度的反射。因此检测到强信号。此处，将在信噪比的意义上来理解强信号和弱信号，其中有用信号的功率与噪声相关。

4、本专利技术所解决的问题在于提供一种使得能够更本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于使用具有发射具有非均匀强度廓线(30)的激光光(16)的至少一个半导体激光器(14)的激光设备(12)来确定粒子流(10)中的粒子分布的方法，所述方法的特征在于

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，基于测量持续时间和所述粒子(18)的流动速度(11)来确定所述粒子直径。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，针对<1微米的粒子直径实现所述直径校正。

4.如前述权利要求中一项所述的方法，其特征在于，通过存储小于来自所述直径列表的代表性粒子直径的所述粒子直径的所述频率分布来创建所述校正列表。

5.如前述权利要求中一项...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于使用具有发射具有非均匀强度廓线(30)的激光光(16)的至少一个半导体激光器(14)的激光设备(12)来确定粒子流(10)中的粒子分布的方法，所述方法的特征在于

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，基于测量持续时间和所述粒子(18)的流动速度(11)来确定所述粒子直径。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，针对<1微米的粒子直径实现所述直径校正。

4.如前述权利要求中一项所述的方法，其特征在于，通过存储小于来自所述直径列表的代表性粒子直径的所述粒子直径的所述频率分布来创建所述校正列表。

5.如前述权利要求中一项所述的方法，其特征在于，通过所述校正列表来降低小于所述代表性直径的粒子直径的频率。

6.如权利要求4或5所述的方法，其特征在于，通过所述校正列表来增加所述代表性直径的所述频率。

7.如权利要求4至6中一项所述的方法，其特征在于，所述直径列表中的不同直径的数目指定对所述直径列表的所述频率校正的重复次数，其中选择最大粒子直径作为第一次频率校正中的代表性直径，并且选择所述直径列表中的最小粒子直径作为最后一次频率校正中的代表性直径。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，仅为对应于所述直径列表中的最大直径的代表性直径确定所述校正列表一次，其中此校正列表用于所有的频率校正。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：汉斯·斯普里特，奥克·奥韦尔蒂斯，亚历山大·马克·范德李，罗伯特·魏斯，
申请(专利权)人：通快光电器件有限公司，
类型：发明
国别省市：