【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及硅片样片腐蚀检测，尤其涉及一种硅片样片腐蚀检测设备。
技术介绍
1、硅片样片腐蚀设备是对光伏及半导体晶圆单晶炉生长工艺后的晶圆硅棒进行腐蚀检测，是一种硅片的检测设备。
2、目前行业采用的是手动实验台进行单片或几片一起检测，这样的检测效率低，不能满足大批量的检测，需要同时检测不同规格的硅片，不同硅片检测的工艺配方不一样，检测的温度，溶液的浓度都是不一样的，现阶段只能通过人工调配溶液，过程繁琐，人工调配安全系数低，容易出错，整个操作过程，都是操作者带好防护用具进行操作，不方便，为此我们提出了一种硅片样片腐蚀检测设备。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种硅片样片腐蚀检测设备，该硅片样片腐蚀检测设备解决了人工调配溶液，过程繁琐，人工调配安全系数低，容易出错的问题。
2、为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：
3、一种硅片样片腐蚀检测设备，包括保护壳体，所述保护壳体的内侧中部设置有工艺槽，所述保护...
【技术保护点】
1.一种硅片样片腐蚀检测设备，其特征在于，包括保护壳体(1)，所述保护壳体(1)的内侧中部设置有工艺槽(2)，所述保护壳体(1)的内侧设置有机械手夹持部(3)，所述保护壳体(1)内设置有若干走线槽(4)，所述保护壳体(1)内设置有缓冲罐(5)，所述缓冲罐(5)的一侧设置有机械液体计量部，所述缓冲罐(5)的另一侧设置有铬酸搅拌槽(6)，所述铬酸搅拌槽(6)的一侧设置有暂存槽(7)，所述保护壳体(1)的内侧顶部设置有日照灯(8)，所述保护壳体(1)的上侧设置有排风阀(9)，所述保护壳体(1)的一侧设置有控制面板(10)。
2.根据权利要求1所述的一种硅片样片腐...
【技术特征摘要】
1.一种硅片样片腐蚀检测设备，其特征在于，包括保护壳体(1)，所述保护壳体(1)的内侧中部设置有工艺槽(2)，所述保护壳体(1)的内侧设置有机械手夹持部(3)，所述保护壳体(1)内设置有若干走线槽(4)，所述保护壳体(1)内设置有缓冲罐(5)，所述缓冲罐(5)的一侧设置有机械液体计量部，所述缓冲罐(5)的另一侧设置有铬酸搅拌槽(6)，所述铬酸搅拌槽(6)的一侧设置有暂存槽(7)，所述保护壳体(1)的内侧顶部设置有日照灯(8)，所述保护壳体(1)的上侧设置有排风阀(9)，所述保护壳体(1)的一侧设置有控制面板(10)。
2.根据权利要求1所述的一种硅片样片腐蚀检测设备，其特征在于，所述保护壳体(1)的前侧设置有若干翻转门一(11)，所述保护壳体(1)的左右两侧均设置有翻转门二(12)，所述保护壳体(1)的后侧分别设置有暂存槽区(13)、配电盘区(14)、表头调压阀区(15)。
3.根据权利要求1所述的一种硅片样片腐蚀检测设备，其特征在于，所述保护壳体(1)的下侧设置有若干支撑脚(16)及万向轮(17)。
4.根据权利要求1所述的一种硅片样片腐蚀检测设备，其特征在于，所述保护壳体(1)内且位于工艺槽(2)的左右两侧分别设置有工位一(29)、工位二(30)。
5.根据权利要求1所述的一种硅片样片腐蚀检测设备，其特征在于，所述机械液体计量部包括机架(18)，所述机架(18)的上侧设置有pp板(19)，所述pp板(19)的一侧设置有计量泵(20)，所述计量泵(20)的一侧通过导管连接有球阀一(21)，所述球阀一(21)的一侧设置有压力表(25)，所述计量泵(20)的一侧通过导管连接有泄压阀(22)，所述泄压阀(22)的一侧设置有球阀二(23)，所述球阀二(23...
【专利技术属性】
技术研发人员：王金余，杨桦，
申请(专利权)人：无锡奥多尔自动化有限公司，
类型：发明
国别省市：
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