一种硅铝靶材及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种硅铝靶材及其制备方法，属于金属加工领域，该方法采用等离子喷涂工艺，在产品制备时，通过旋转喷涂背管的特殊加护设计以及选择特殊粒径的粉末原料，使得制备的产品可以在高密度，没有明显裂纹的品质基础上，具有高沉积率，生产效率高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及金属加工领域，具体涉及一种硅铝靶材及其制备方法。

技术介绍

1、等离子喷涂工艺制备硅铝靶材因不受尺寸和空间限制，可以根据实际需求制备任意尺寸的靶材产品，理论上可以很好代替现有的粉末压制烧结工艺。但这种工艺制备的靶材产品存在致密度低、沉积率低的问题，并非产品表面尤其是端部位置容易因应力集中而出现裂纹现象，受控因素复杂，产品生产的效率和产品品质均难以达到工业化批量生产的标准要求。

技术实现思路

1、基于现有技术存在的缺陷，本专利技术的目的在于提供了一种硅铝靶材的制备方法，该方法依然采用等离子喷涂工艺，但在产品制备时，通过旋转喷涂背管的特殊加护设计以及选择特殊粒径的粉末原料，使得制备的产品可以在高密度，没有明显裂纹的品质基础上，具有高沉积率，生产效率高。

2、为了达到上述目的，本专利技术采取的技术方案为：

3、一种硅铝靶材的制备方法，包括以下步骤：

4、(1)设置旋转喷涂背管，对旋转喷涂背管进行喷砂处理，随后通过电弧喷涂处理在旋转喷涂背管的喷涂部位上设置nial涂层本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种硅铝靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述硅铝靶材的制备方法，其特征在于，所述NiAl涂层的厚度为0.5～1.3mm。

3.如权利要求1所述硅铝靶材的制备方法，其特征在于，所述铝粉的粒径为50～120μm。

4.如权利要求1所述硅铝靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中，所述等离子喷涂时的工作功率为30～35kW，所述等离子喷涂使用喷枪的移动速率为35～45mm/min，喷涂距离为100～150mm，旋转喷涂背管的转速为200～300rpm，混合粉末的送粉量为190～200g/min，送粉气体流量为3.5～4.5...

【技术特征摘要】

1.一种硅铝靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述硅铝靶材的制备方法，其特征在于，所述nial涂层的厚度为0.5～1.3mm。

3.如权利要求1所述硅铝靶材的制备方法，其特征在于，所述铝粉的粒径为50～120μm。

4.如权利要求1所述硅铝靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中，所述等离子喷涂时的工作功率为30～35kw，所述等离子喷涂使用喷枪的移动速率为35～45mm/min，喷涂距离为100～1...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘亚凡，孙永利，余恒飞，文崇斌，张文涛，童培云，
申请(专利权)人：先导薄膜材料淄博有限公司，
类型：发明
国别省市：