用于在真空中保持、定位和/或移动物体的设备制造技术

本发明专利技术涉及一种用于在真空中保持、定位和/或移动物体的设备，所述设备包括：底座、具有基板保持器的末端执行器、可选地作用于底座上的竖直或升降驱动器和用于所述滑架的磁性支承件。根据本发明专利技术，所述线性驱动器构造成能用流体加载的、否则闭合的、带有双作用的活塞的缸，所述活塞设有磁组件。所述滑架具有至少局部地在外部包围所述缸的磁环，所述磁环非接触式地包围所述缸。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种根据权利要求1的前序部分所述的用于在真空中保持、定位和/或移动物体的设备，所述设备包括底座、带有基板保持器的末端执行器、通过滑架与末端执行器耦合的线性驱动器、作用在底座上的竖直或升降驱动器以及用于所述滑架的磁性支承件。

技术介绍

1、例如在加工用于制造半导体器件的基板时，使用大面积的基板，必须对所述基板进行不同的表面处理过程。

2、例如这里必须进行涂层，曝光和蚀刻步骤或扩散过程是必要的。

3、表面处理工艺的大部分应在洁净室条件下或在真空下实施。

4、由用于新型半导体元件的基板可以构成达到纳米范围的结构，这要求极其精确的供应和定位所述基板。

5、此外，基板环境必要的无颗粒性对相应必要的操作机提出了高要求。

6、出于这个原因，非接触式支承基板以及构成相应的保持、移动或移位驱动器是必要的。

7、这里已知用于高洁净度的制造环境的气压支承件，所述气压支承件由于基板附近的空气流动对于要实施的处理步骤构成问题。

8、也已知具有底座和承载物体的载体的磁性保持或定位装置。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.用于在真空中保持、定位和/或移动物体的设备，所述设备包括：底座(4)，所述底座具有末端执行器(10)，所述末端执行器带有基板保持器(1)；通过滑架(11)与末端执行器(10)耦合的线性驱动器；以及用于所述滑架(11)的磁性支承件，其特征在于，所述线性驱动器构造成能用流体加载的、否则闭合的、带有双作用的活塞(3)的缸(2)，所述活塞(3)设有磁组件(30)，所述滑架(11)还具有至少局部地在外部包围所述缸(2)的磁环(14)，所述磁环非接触式地包围所述缸(2)，并且所述滑架(11)能相对于所述底座(4)非接触式地平移运动，并且防旋转式倾斜地固定且磁性(40；41)地被引导。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.用于在真空中保持、定位和/或移动物体的设备，所述设备包括：底座(4)，所述底座具有末端执行器(10)，所述末端执行器带有基板保持器(1)；通过滑架(11)与末端执行器(10)耦合的线性驱动器；以及用于所述滑架(11)的磁性支承件，其特征在于，所述线性驱动器构造成能用流体加载的、否则闭合的、带有双作用的活塞(3)的缸(2)，所述活塞(3)设有磁组件(30)，所述滑架(11)还具有至少局部地在外部包围所述缸(2)的磁环(14)，所述磁环非接触式地包围所述缸(2)，并且所述滑架(11)能相对于所述底座(4)非接触式地平移运动，并且防旋转式倾斜地固定且磁性(40；41)地被引导。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，带有线性驱动器和末端执行器(10)的所述底座(4)与竖直或升降驱动器、尤其是升降驱动器(6)相连，并且为此构成与所述底座(4)连接的带有密封件(13)的轴(12)。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述底座(4)能通过所述轴(12)借助于磁性的旋转耦合结构(8)绕所述轴(12)的轴线转动和固定。

4.根据权利要求2或3所述的设备，其特征在于，所述轴(12)设计成空心轴...

【专利技术属性】
技术研发人员：K·贝格纳，S·亨德舍尔，V·普拉特森卡，
申请(专利权)人：威克姆真空部件和技术有限公司，
类型：发明
国别省市：

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