颗粒过滤器及包含其的真空蒸发源制造技术

本技术揭示一种能防止灰烬或颗粒形态的蒸镀材料的氧化物喷射到喷嘴外的颗粒过滤器。所述颗粒过滤器包括：过滤器壳体；下网眼板，配置在过滤器壳体内；复数个珠子(bead)，配置在下网眼板上；上过滤板，配置在复数个珠子上，结合到过滤器壳体。

【技术实现步骤摘要】

本技术揭示一种颗粒过滤器及包含其的真空蒸发源(particle filter andvacuum effusion cell including the particle fi lter)，更具体地，可诱导蒸镀材料有效沉积的颗粒过滤器及包含其的真空蒸发源。

技术介绍

1、真空蒸发源为了在配置于高真空腔室内的基板上形成预设薄膜而能加热用于形成薄膜的物质并将其蒸发。真空蒸发源用来在半导体制造工艺中在基板表面形成由特定物质构成的薄膜或者在大型平板显示装置的制造工艺中在玻璃基板等的表面形成以所需物质构成的薄膜。

2、从真空蒸发源蒸发的蒸镀材料移动到基板表面并经过吸附、沉积、再蒸发之类的连续性过程在基板上固体化并形成薄膜。

3、此时，在蒸镀材料的生产与保管过程中蒸镀材料的外表面可能会氧化。蒸镀材料的氧化物在蒸镀工艺中以灰烬(ash)或颗粒(particle)形态排放到真空蒸发源的外部并被基板吸附，从而引起显示装置不良。

技术实现思路

1、本技术需要解决的课题是提供一种能防止灰烬或颗粒形态的蒸镀材本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种颗粒过滤器，其配置在收容蒸镀材料的坩锅的内部，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的颗粒过滤器，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的颗粒过滤器，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的颗粒过滤器，其特征在于，

5.一种真空蒸发源，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的真空蒸发源，其特征在于，

7.根据权利要求6所述的真空蒸发源，其特征在于，

8.根据权利要求5所述的真空蒸发源，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的真空蒸发源，其特征在于，

【技术特征摘要】

1.一种颗粒过滤器，其配置在收容蒸镀材料的坩锅的内部，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的颗粒过滤器，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的颗粒过滤器，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的颗粒过滤器，其特征在于，

5.一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵汉烈，林泰均，裵基亨，金镇熙，文光男，李相勋，千珷宁，
申请(专利权)人：艾尔法普拉斯株式会社，
类型：新型
国别省市：