【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体领域,尤其涉及一种氧化铝锌靶材及其制备方法和应用。
技术介绍
1、锡掺杂氧化铟(i nd iμm tin oxide,简称i to)是当前应用最广泛的透明导电膜。现有i to薄膜的制备方法主要是由磁控溅射法和真空蒸镀法,磁控溅射法主要用于高密度i to靶材,其靶材相对密度大于99%,而真空蒸镀原理是对低密度的i to靶材进行加热,由于其密度较低,从而使其蒸发并沉积在需要镀膜的基片上。蒸发镀膜利用在真空、高温下的蒸镀材料蒸发形成薄膜,并沉积在基底材料上,具有操作方便、较高的沉积速率等特点,一般选用低密度蒸镀材料,所蒸镀出的薄膜纯度均匀、致密性高、膜结构和性能独特、硬度适中及优异的光电特性。并且因为蒸镀具有沉积速率快等特点,所以靶材密度过高会导致蒸镀不稳定,出现裂靶、容易造成蒸镀薄膜出现毛孔,密度和曲折率低,有膜强度不足的倾向。
2、中国专利申请202311187610.2中公开了一种高密度高均匀性氧化锌铝靶材及其制备方法,制备方法为:将粒径为0.3~0.8μm的小粒径氧化锌铝粉末与粒径为1~1.5μm的大粒
...【技术保护点】
1.一种氧化铝锌靶材的制备方法,其特征在于,包含如下步骤:
2.根据权利要求1所述的氧化铝锌靶材的制备方法,其特征在于,所述步骤1的煅烧工艺为:煅烧温度为1350~1500℃,升温速率为3~5℃/min,保温时间为8-12h,降温速率为3~5℃/min。
3.根据权利要求1所述的氧化铝锌靶材的制备方法,其特征在于,所述步骤1的坩埚为氧化铝坩埚,过筛使用的筛网目数为80~200目。
4.根据权利要求1所述的氧化铝锌靶材的制备方法,其特征在于,所述步骤2中粘结剂溶液中粘结剂与去离子水的质量比为2:1。
5.根据权利要求1所述
...【技术特征摘要】
1.一种氧化铝锌靶材的制备方法,其特征在于,包含如下步骤:
2.根据权利要求1所述的氧化铝锌靶材的制备方法,其特征在于,所述步骤1的煅烧工艺为:煅烧温度为1350~1500℃,升温速率为3~5℃/min,保温时间为8-12h,降温速率为3~5℃/min。
3.根据权利要求1所述的氧化铝锌靶材的制备方法,其特征在于,所述步骤1的坩埚为氧化铝坩埚,过筛使用的筛网目数为80~200目。
4.根据权利要求1所述的氧化铝锌靶材的制备方法,其特征在于,所述步骤2中粘结剂溶液中粘结剂与去离子水的质量比为2:1。
5.根据权利要求1所述的氧化铝锌靶材的制备方法,其特征在于,所述步骤2的粘结剂为聚乙烯醇与聚乙二醇的混合剂、聚乙烯醇或聚乙烯醇缩丁醛中的一种或多种,且粘结剂的量为粉体一质量的1%...
【专利技术属性】
技术研发人员:顾德盛,张兴宇,罗斯诗,李开杰,王奇峰,
申请(专利权)人:先导薄膜材料广东有限公司,
类型:发明
国别省市:
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