光催化用UiO-66（Zr/Hf）基吸附材料、制备方法及应用技术

本发明专利技术涉及一种用于光催化降解水中有机污染物的UiO‑66（Zr/Hf）基吸附材料及该材料的制备方法及应用。其制备方法包括以下步骤：S1、将有机配体和氯化锆加入DMF溶剂中，加入乙酸，水热反应得到UiO‑66基材料；S2、将氯化铪分散于无水二氯乙烷中，后加入THF和正己烷，0℃和N<subgt;2</subgt;保护下反应得到黄色沉淀HfCl<subgt;4</subgt;(THF)<subgt;2</subgt;，过滤洗涤并干燥；S3、将UiO‑66基材料、HfCl<subgt;4</subgt;(THF)<subgt;2</subgt;和DMF混合，120℃下反应5~20 h，将固体产物洗涤并真空干燥后得到UiO‑66（Zr/Hf）基材料。本发明专利技术能够用于光催化降解水中有机污染物，并能够有效提高光催化降解材料的吸附能力和催化活性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于光催化降解水中有机污染物的uio-66（zr/hf）基吸附材料及该材料的制备方法及应用。

技术介绍

1、寻求如何绿色有效地降解水中污染物成为目前的研究热点。通过半导体基光催化剂来降解有机污染物被认为是一种高效环保的方法。但是，由于光诱导的电子空穴对e--h+的快速生成往往导致光催化效率较低，研究发现上述问题可以通过与其他贵族金属的结合来解决。据报道，用具有合适能带的两种半导体材料制备的异质结光催化剂可以显著提高光催化性能。然而，这些材料的活性和稳定性仍需进一步提高以满足实际应用的需求。金属有机框架材料（mofs）是由金属团簇通过有机配体相互连接而形成的一种多孔材料。因其具有高比表面积、可调控孔径和功能化等优点，在众多领域受到了广泛的关注。尤其，部分mofs材料在光照射下被激发，表现出类似半导体的光催化特性。此外，具有高比表面积的mofs可以作为理想的光催化剂载体来避免纳米级的催化剂颗粒团簇聚集的问题，或与其他光催化剂结合提高其光催化活性和稳定性。其中，zr基mofs材料uio-66因其高比表面面积、良好的化学耐久性和吸收可见光的能力而本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光催化用UiO-66基吸附材料的制备方法，其特征是：包括以下步骤，

2.根据权利要求1所述的光催化用UiO-66基吸附材料的制备方法，其特征是：步骤S1中所述有机配体包括对苯二甲酸、2-氨基对苯二甲酸、2，5-二羟基对苯二甲酸中的一种或多种，氯化锆和有机配体的摩尔比为1~5：1；DMF和乙酸的加入量为：每mol氯化锆加入20~60mLDMF和1~3 mL乙酸。

3.根据权利要求1所述的光催化用UiO-66基吸附材料的制备方法，其特征是：步骤S1中所述水热反应条件为120 ℃，72 h。

4.根据权利要求1所述的光催化用UiO-66基吸附材料的制...

【技术特征摘要】

1.一种光催化用uio-66基吸附材料的制备方法，其特征是：包括以下步骤，

2.根据权利要求1所述的光催化用uio-66基吸附材料的制备方法，其特征是：步骤s1中所述有机配体包括对苯二甲酸、2-氨基对苯二甲酸、2，5-二羟基对苯二甲酸中的一种或多种，氯化锆和有机配体的摩尔比为1~5：1；dmf和乙酸的加入量为：每mol氯化锆加入20~60mldmf和1~3 ml乙酸。

3.根据权利要求1所述的光催化用uio-66基吸附材料的制备方法，其特征是：步骤s1中所述水热反应条件为120 ℃，72 h。

4.根据权利要求1所述的光催化用uio-66基吸附材料的制备方法，其特征是：步骤s1中的固体产物采用dmf和甲醇分别洗涤3次，干燥条件为60 ℃，24 h。

5.根据权利要求1所述的光催化用uio-66基吸附材料的制备方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵玉媛，张宗琦，
申请(专利权)人：镇江市高等专科学校，
类型：发明
国别省市：