【技术实现步骤摘要】
本技术属于真空镀膜，具体涉及一种离子源和电子枪的屏蔽装置。
技术介绍
1、目前，真空镀膜是一种利用真空环境下的物理或化学方法将一层材料沉积在基底表面上的技术，它主要应用于各种材料的表面改性和功能修饰，如增加材料的硬度、耐磨性、耐腐蚀性、光学透明性等。
2、在真空镀膜过程中，采用离子源和电子枪相结合的方式进行镀膜，粉尘落到电子枪口，容易引起打火，离子源产生的离子和电子枪产生的电子容易相互干扰打火，进而损伤离子源和电子枪；也存在离子和电子在真空镀膜室中分布不均匀，使得镀膜的厚度不均匀。
技术实现思路
1、针对以上问题，至少解决其中一个问题，本技术的目的在于通过屏蔽装置，压缩离子和电子相互干扰而打火的区域，进而保护离子源和电子枪，同时，使得离子和电子在真空镀膜中均匀分布，有利于提升镀膜的均匀性，进而提升镀膜的质量，提供一种离子源和电子枪的屏蔽装置。
2、为实现以上技术目的，本技术采用以下技术方案：
3、一种离子源和电子枪的屏蔽装置，包括：离子源、电子枪、固定屏...
【技术保护点】
1.一种离子源和电子枪的屏蔽装置，包括：离子源（101）、电子枪（102）、固定屏蔽板（103）、可移动屏蔽板（201）、反射板、支架（301），其中，固定屏蔽板（103）包括第一屏蔽板（103-1）、第二屏蔽板（103-2）、第三屏蔽板（103-3）、第四屏蔽板（103-4），其特征在于，第一屏蔽板（103-1）和第三屏蔽板（103-3）采用对称的直角梯形，第二屏蔽板（103-2）和第四屏蔽板（103-4）采用方形，第一屏蔽板（103-1）、第二屏蔽板（103-2）、第三屏蔽板（103-3）和第四屏蔽板（103-4）依次连接，围成等高，且横截面为方形的环形屏蔽空间，...
【技术特征摘要】
1.一种离子源和电子枪的屏蔽装置，包括：离子源（101）、电子枪（102）、固定屏蔽板（103）、可移动屏蔽板（201）、反射板、支架（301），其中，固定屏蔽板（103）包括第一屏蔽板（103-1）、第二屏蔽板（103-2）、第三屏蔽板（103-3）、第四屏蔽板（103-4），其特征在于，第一屏蔽板（103-1）和第三屏蔽板（103-3）采用对称的直角梯形，第二屏蔽板（103-2）和第四屏蔽板（103-4）采用方形，第一屏蔽板（103-1）、第二屏蔽板（103-2）、第三屏蔽板（103-3）和第四屏蔽板（103-4）依次连接，围成等高，且横截面为方形的环形屏蔽空间，第四屏蔽板（103-4）采用倾斜设置，固定屏蔽板（103）形成的环形屏蔽空间，从下到上的横截面面积是收敛的，可移动屏蔽板（201）设置在固定屏蔽板（103）正上方，可移动屏蔽板（201）在固定屏蔽板（103）一侧设置反射板，支架（30...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐自林，陈磊，
申请(专利权)人：成都菲奥姆光学有限公司，
类型：新型
国别省市：
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