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一种离子源和电子枪的屏蔽装置，属于真空镀膜技术领域。包括：离子源、电子枪、固定屏蔽板、可移动屏蔽板、反射板、支架，第一屏蔽板、第二屏蔽板、第三屏蔽板和第四屏蔽板依次连接，围成等高，且横截面为方形的环形屏蔽空间，第四屏蔽板采用倾斜设置，固定屏...
该专利属于成都菲奥姆光学有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都菲奥姆光学有限公司授权不得商用。

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